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1. (WO2006090575) EXPOSING METHOD AND ALIGNER
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/090575    International Application No.:    PCT/JP2006/302028
Publication Date: 31.08.2006 International Filing Date: 07.02.2006
IPC:
G03F 7/207 (2006.01), G02B 7/28 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: FUJIFILM Corporation [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo, 1068620 (JP) (For All Designated States Except US).
TAKADA, Norihisa [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KITAGAWA, Tomoya [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: TAKADA, Norihisa; (JP).
KITAGAWA, Tomoya; (JP)
Agent: NAKAJIMA, Jun; TAIYO, NAKAJIMA & KATO Seventh Floor, HK-Shinjuku Bldg. 3-17, Shinjuku 4-chome Shinjuku-ku, Tokyo 160-0022 (JP)
Priority Data:
2005-045912 22.02.2005 JP
Title (EN) EXPOSING METHOD AND ALIGNER
(FR) PROCEDE D'EXPOSITION ET DISPOSITIF SERVANT A ALIGNER
(JA) 露光方法および露光装置
Abstract: front page image
(EN)The center (C56) of a variation range (D56) of a surface (56) to be exposed is brought close to the central value (C166) of the focal point adjusting range of an exposure head (166) by driving an elevator (157) provided on an installation base (156) to move a stage (152) in the Z direction, i.e. the direction of optical axis. Consequently, the center (C56) of the variation range (D56) of the surface (56) to be exposed due to meandering of a photosensitive material (150) or error in thickness dimension approaches the value (C166) and a focal point is adjusted by an autofocus mechanism in each exposure head (166). The value (C166) is the central position of a focal point adjusting range of each exposure head (166), and when the center (C56) of variation range (D56) on the surface of the photosensitive material (150), i.e. the surface (56) to be exposed, is brought close to the value (C166), the variation range (D56) of the surface (56) to be exposed due to meandering of the photosensitive material (150) or error in thickness dimension error can be confined easily within a range (D166), i.e. the focal point adjusting range of each exposure head (166). As a result, occurrence of error and lowering of yield can be prevented.
(FR)Cette invention se rapporte à un centre (C56) d'une plage de variation (D56) d'une surface (56) à exposer qui est approchée de la valeur centrale (C166) de la plage de réglage du point focal d'une tête d'exposition (166à en conduisant un élévateur (157) fourni sur une installation (156) afin de déplacer un étage (152) dans la direction Z, c'est à dire dans la direction de l'axe optique. Il en résulte que le centre (C56) de la plage de variation (D56) de la surface (56) devant être exposée, en raison de la trajectoire d'un matériau photosensible (150) ou d'une erreur dans la dimension de l'épaisseur, approche la valeur (C166) et un point focal est réglé au moyen d'un mécanisme d'autofocus dans chaque tête d'exposition (166). La valeur (C166) est la position centrale de la plage réglant le point focal dans chaque tête d'exposition (166), et lorsque le centre (C56) de la plage de variation (D56) sur la surface du matériau photosensible (150), c'est à dire la surface (56) devant être exposée, s’approche de la valeur (C166), la plage de variation (D56) de la surface (56) devant être exposée, en raison de la trajectoire du matériau photosensible (150) ou d'une erreur dans la dimension de l'épaisseur, peut facilement être confinée dans une plage (D166), c'est à dire la plage de réglage du point focal de chaque tête d'exposition (166). En conséquence, l'apparition d'une erreur et la baisse de rendement peuvent être évités.
(JA) 設置台156に設けた昇降装置157を駆動し、ステージ152をZ方向すなわち光軸方向に移動させることで被露光面56の変動幅であるD56の中心C56を露光ヘッド166の焦点調節範囲の中央値C166に近付ける。これにより、感光材料150のうねり又は厚さ寸法誤差による被露光面56の変動範囲であるD56の中心C56はC166に近づき、各露光ヘッド166においてオートフォーカス機構による焦点調節が行われることとなる。C166は各露光ヘッド166の焦点調節範囲の中心位置であり、このC166に感光材料150表面、すなわち被露光面56の変動範囲D56の中心C56を近付けることで、感光材料150のうねり又は厚さ寸法誤差による被露光面56の変動範囲D56を各露光ヘッド166の焦点調節範囲であるD166に収め易くなり、結果としてエラーの発生を防ぎ歩留まりの低下をも防ぐことができる。                                                                                 
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)