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1. (WO2006090537) GAS MIXER, FILM DEPOSITION EQUIPMENT, AND METHOD FOR PRODUCING THIN FILM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/090537    International Application No.:    PCT/JP2006/300751
Publication Date: 31.08.2006 International Filing Date: 19.01.2006
IPC:
B01F 5/02 (2006.01), B01F 3/02 (2006.01), B01F 15/02 (2006.01), B01F 15/06 (2006.01), B01J 19/00 (2006.01), C23C 16/455 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01)
Applicants: HOYA ADVANCED SEMICONDUCTOR TECHNOLOGIES CO., LTD. [JP/JP]; 17-16, Tanashioda 1-chome, Sagamihara-shi, Kanagawa 2291125 (JP) (For All Designated States Except US).
MIURA, Yutaka [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: MIURA, Yutaka; (JP)
Agent: WATANABE, Kihei; Shibashin Kanda Bldg. 3rd Floor, 26, Kanda Suda-cho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010041 (JP)
Priority Data:
2005-044938 22.02.2005 JP
Title (EN) GAS MIXER, FILM DEPOSITION EQUIPMENT, AND METHOD FOR PRODUCING THIN FILM
(FR) MÉLANGEUR DE GAZ, ÉQUIPEMENT DE DÉPOSITION DE FILM, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILM MINCE
(JA) ガス混合器、成膜装置、及び薄膜製造方法
Abstract: front page image
(EN)A gas mixer having at least two mixing chambers in which the first mixing chamber is provided with two or more openings for introducing two or more kinds of gas being mixed and one or more discharge opening, and the second mixing chamber is provided with one or more openings communicating with the discharge opening of the first mixing chamber and introducing gas discharged from the first mixing chamber and one or more discharge opening, the discharge openings provided in the first mixing chamber and/or second mixing chamber being arranged so as not to overlap the introduction opening provided in the same mixing chamber in the direction of gas flow. A gas mixer applicable to a variety of film deposition conditions can be provided without causing complication of the equipment or increase in size. A film deposition equipment employing it, and a method for forming a thin film having high in-plane uniformity are also provided.
(FR)L’invention concerne un mélangeur de gaz ayant au moins deux chambres de mélange, la première chambre de mélange étant pourvue de deux ouvertures ou plus pour injecter deux types de gaz ou plus en cours de mélange et une ou plusieurs ouvertures de décharge, et la deuxième chambre de mélange étant pourvue d’une ou de plusieurs ouvertures communiquant avec l’ouverture de décharge de la première chambre de mélange et injectant le gaz déchargé depuis la première chambre de mélange et une ou plusieurs ouvertures de décharge, les ouvertures de décharge disposées dans la première chambre de mélange et/ou la deuxième chambre de mélange étant disposées pour ne pas chevaucher l’ouverture d’introduction disposée dans la même chambre de mélange dans le sens d’écoulement de gaz. Un mélangeur de gaz applicable à une variété de conditions de déposition de film peut être obtenu sans compliquer l’équipement ni augmenter sa taille. L’invention concerne également un équipement de déposition de film employant ledit mélangeur et un procédé de fabrication d’un film mince de grande uniformité dans le plan.
(JA) 少なくとも二以上の混合室を備えるガス混合器において、第一混合室に、混合しようとする二種以上のガスがそれぞれ導入される二以上の導入口と、一以上の排出口とを設けるとともに、第二混合室に、第一混合室に設けられた排出口と連通し、第一混合室から排出されたガスが導入される一以上の導入口と、一以上の排出口とを設け、第一混合室及び/又は第二混合室に設けた排出口を、同じ混合室に設けられた導入口に対して、ガスの流れ方向において重ならないように配設する。これにより、装置の複雑化や、大型化を招くことなく、多様な成膜条件に適用可能なガス混合器、これを用いた成膜装置、及び面内均一性の高い薄膜を形成できる薄膜製造方法を提供する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)