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1. (WO2006089681) METHOD FOR INCREASING THE LASER DAMAGE THRESHOLD OF DIFFRACTION GRIDS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/089681    International Application No.:    PCT/EP2006/001410
Publication Date: 31.08.2006 International Filing Date: 16.02.2006
Chapter 2 Demand Filed:    22.12.2006    
IPC:
C03C 23/00 (2006.01), B23K 26/40 (2006.01)
Applicants: GESELLSCHAFT FÜR SCHWERIONENFORSCHUNG MBH [DE/DE]; Planckstr. 1, 64291 Darmstadt (DE) (For All Designated States Except US).
BORNEIS, Stefan [DE/DE]; (DE) (For US Only).
ONKELS, Eckenhard [DE/DE]; (DE) (For US Only).
JAVORKOVA, Dasa [DE/DE]; (DE) (For US Only).
NEUMAYER, Paul [DE/DE]; (DE) (For US Only)
Inventors: BORNEIS, Stefan; (DE).
ONKELS, Eckenhard; (DE).
JAVORKOVA, Dasa; (DE).
NEUMAYER, Paul; (DE)
Agent: MERGEL, Volker; Alexandrastrasse 5, 65187 Wiesbaden (DE)
Priority Data:
05003757.1 22.02.2005 EP
Title (DE) VERFAHREN ZUR ERHÖHUNG DER LASERZERSTÖRSCHWELLE VON BEUGUNGSGITTERN
(EN) METHOD FOR INCREASING THE LASER DAMAGE THRESHOLD OF DIFFRACTION GRIDS
(FR) PROCEDE POUR AUGMENTER LE SEUIL DE DESTRUCTION LASER DE RESEAUX DE DIFFRACTION
Abstract: front page image
(DE)Zur Erhöhung der Laserzerstörschwelle (Laser Damage Threshold; LDT) von Beugungsgittern, insbesondere von dielektrisch beschichteten (Multi-Layer Dielectric; MLD) Beugungsgittern, sieht die Erfindung ein Verfahren zur Behandlung eines Beugungsgitters zum Einsatz in einer einen ersten Laser aufweisenden Hochenergielaservorrichtung vor, mit den Schritten des Bereitstellens des Beugungsgitters, des Bereitstellens eines zweiten Behandlungs-Lasers und des Bestrahlens des Beugungsgitters mit Laserlicht des zweiten Behandlungs-Lasers bis sich die Laserzerstörschwelle des Beugungsgitters erhöht hat. Die Erfindung sieht weiterhin ein verfahrensgemäß behandeltes Beugungsgitter vor, sowie ein Lasersystem, welches ein solches Beugungsgitter umfasst.
(EN)The aim of the invention is to increase the laser damage threshold LDT of diffraction grids, especially dielectrically coated (multi-layer dielectric; MLD) diffraction grids. To this end, the invention relates to a method for treating a diffraction grid to be used in a high-energy laser device comprising a first laser, said method comprising the following steps: the diffraction grid is prepared, a second treatment laser is prepared, and the diffraction grid is irradiated with laser light from the second treatment laser until the laser damage threshold of the diffraction grid is increased. The invention also relates to a diffraction grid treated according to said method, and a laser system comprising one such diffraction grid.
(FR)Afin d'augmenter le seuil de destruction laser (Laser Damage Threshold; LDT) de réseaux de diffraction, en particulier de réseaux de diffraction recouverts de diélectrique (Multi-Layer Dielectric; MLD), l'invention concerne un procédé pour traiter un réseau de diffraction à utiliser dans un dispositif à laser fortement énergétique présentant un premier laser, le procédé comprenant les étapes suivantes: mise à disposition du réseau de diffraction; mise à disposition d'un second laser de traitement; et exposition du réseau de diffraction à la lumière laser du second laser de traitement, jusqu'à ce que le réseau de diffraction ait un seuil de destruction laser supérieur. L'invention a également pour objet un réseau de diffraction traité grâce audit procédé, ainsi qu'un système laser comprenant un réseau de diffraction de ce type.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)