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1. (WO2006088209) PRODUCTION METHOD FOR 3-D MOLD, PRODUCTION METHOD FOR FINELY MACHINED PRODUCT, PRODUCTION METHOD FOR FINE-PATTERN MOLDED PRODUCT, 3-D MOLD, FINELY MACHINED PRODUCT, FINE-PATTERN MOLDED PRODUCT AND OPTICAL COMPONENT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/088209    International Application No.:    PCT/JP2006/303084
Publication Date: 24.08.2006 International Filing Date: 21.02.2006
IPC:
B29C 33/38 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), B82B 3/00 (2006.01), B82B 1/00 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: TOKYO UNIVERSITY OF SCIENCE EDUCATIONAL FOUNDATION ADMINISTRATIVE ORGANIZATION [JP/JP]; 1-3, Kagurazaka, Shinjuku-ku, Tokyo 1628601 (JP) (For All Designated States Except US).
TANIGUCHI, Jun [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: TANIGUCHI, Jun; (JP)
Agent: NAKAJIMA, Jun; TAIYO, NAKAJIMA & KATO, Seventh Floor, HK-Shinjuku Bldg., 3-17, Shinjuku 4-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022 (JP)
Priority Data:
2005-044588 21.02.2005 JP
2005-323418 08.11.2005 JP
Title (EN) PRODUCTION METHOD FOR 3-D MOLD, PRODUCTION METHOD FOR FINELY MACHINED PRODUCT, PRODUCTION METHOD FOR FINE-PATTERN MOLDED PRODUCT, 3-D MOLD, FINELY MACHINED PRODUCT, FINE-PATTERN MOLDED PRODUCT AND OPTICAL COMPONENT
(FR) PROCEDE DE PRODUCTION D’UN MOULE 3-D, PROCEDE DE PRODUCTION D’UN PRODUIT USINE AVEC PRECISION, PROCEDE DE PRODUCTION D’UN PRODUIT MOULE A MOTIFS FINS, MOULE 3-D, PRODUIT USINE AVEC PRECISION, PRODUIT MOULE A MOTIFS FINS ET COMPOSANT OPTIQUE
(JA) 3次元モールドの製造方法、微細加工物の製造方法、微細パターン成形品の製造方法、3次元モールド、微細加工物、微細パターン成形品及び光学部品
Abstract: front page image
(EN)A 3-D mold in which its depth and line width can be formed with high precision, production methods for a finely machined product and a fine-pattern molded product, a 3-D mold formed with high precision, a finely machined product, a fine-pattern molded product and an optical element. A production method for a 3-D mold capable of controlling a depth to within 10nm and forming a line width to up to 200nm, characterized in than the irradiation step of applying an electron beam to the resist layer of a work having on its substrate the resist layer formed of a polysiloxane material includes the steps of causing no back-scattering and having irradiation conditions requiring the acceleration voltage of 1kV to 3kV and the dosage of up to 400μC/cm2; a production method for a finely machined product using a 3-D mold; a production method for a fine-pattern molded product using a 3-D mold or a finely machined product; a 3-D mold formed with high precision by these production methods; a finely machined product; a fine-pattern molded product and an optical element.
(FR)La présente invention concerne un moule 3-D dont la profondeur et la largeur de trait peuvent être formées avec une grande précision, des procédés de production d’un produit usiné avec précision et un produit moulé à motifs fins, un moule 3-D formé avec une grande précision, un produit usiné avec précision, un produit moulé à motifs fins et un élément optique. L’invention concerne un procédé de production d’un moule 3-D permettant de maîtriser la profondeur avec une précision de plus ou moins 10 nm et de former une largeur de trait avec une précision pouvant aller jusqu’à plus ou moins 200 nm, caractérisé en ce que l’étape d’irradiation consistant à appliquer un faisceau d’électrons sur une couche de réserve d’une pièce de travail comportant sur son substrat la couche de réserve constituée d’un matériau en polysiloxane, comprend les étapes consistant à ne pas causer de rétrodiffusion et à obtenir des conditions d’irradiation nécessitant une tension d’accélération de 1 kV à 3 kV et un dosage allant jusqu’à 400 µC/cm² ; un procédé de production d’un produit usiné avec précision utilisant un moule 3-D ; un procédé de production d’un produit moulé à motifs fins utilisant un moule 3-D ou un produit usiné avec précision ; un moule 3-D formé avec une grande précision par ces procédés de production ; un produit usiné avec précision ; un produit moulé à motifs fins et un élément optique.
(JA) 深さと線幅が高精度に形成できる3次元モールド、微細加工物及び微細パターン成形品の製造方法、高精度に形成された3次元モールド、微細加工物、微細パターン成形品及び光学素子の提供。  基体上にポリシロキサン系材料で構成されるレジスト層を有する被加工体の該レジスト層に電子線を照射する照射工程が、後方散乱を発生させず且つ1kV乃至3kVの前記加速電圧と、400μC/cm2以下の前記ドーズ量を照射条件とする工程を含むことを特徴する10nm以内の深さ制御と200nm以下の線幅形成が可能な3次元モールドの製造方法、3次元モールドを用いる微細加工物の製造方法、3次元モールド又は微細加工物を用いる微細パターン成形品の製造方法、これら製造方法によって高精度に形成された3次元モールド、微細加工物、微細パターン成形品及び光学素子。                                                            
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)