WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2006088079) ORGANIC-INORGANIC COMPOSITE BODY
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/088079    International Application No.:    PCT/JP2006/302710
Publication Date: 24.08.2006 International Filing Date: 16.02.2006
IPC:
C08L 83/04 (2006.01), C09D 183/04 (2006.01)
Applicants: Nippon Soda Co., Ltd. [JP/JP]; 2-1, Ohtemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008165 (JP) (For All Designated States Except US).
KIMURA, Nobuo [JP/JP]; (JP) (For US Only).
SHIBATA, Hiromoto [JP/JP]; (JP) (For US Only).
HASEGAWA, Kazuki [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: KIMURA, Nobuo; (JP).
SHIBATA, Hiromoto; (JP).
HASEGAWA, Kazuki; (JP)
Agent: SHIGA, Masatake; 2-3-1, Yaesu, Chuo-ku Tokyo 1048453 (JP)
Priority Data:
2005-043199 18.02.2005 JP
2005-248170 29.08.2005 JP
2006-013933 23.01.2006 JP
Title (EN) ORGANIC-INORGANIC COMPOSITE BODY
(FR) CORPS COMPOSITE ORGANIQUE-INORGANIQUE
(JA) 有機無機複合体
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is an organic-inorganic composite body with excellent adhesion to a base wherein the front surface has extremely high hardness while the inner portion and the rear surface have adequate hardness. Specifically disclosed is an organic-inorganic composite body characterized by mainly containing a condensate of an organosilicon compound represented by the following formula (I): RnSiX4-n (wherein R represents an organic group whose carbon atom is directly bonded to Si, X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group, and n represents 1 or 2), and containing at least one photoreactive compound reactive to light having a wavelength of not more than 350 nm which is selected from the group consisting of metal chelate compounds, metal organic acid salt compounds, metal compounds having two or more hydroxyl groups or hydrolyzable groups, hydrolysis products of them and condensates of them, and/or a compound derived therefrom.
(FR)Il est exposé un corps composite organique-inorganique ayant une excellente adhérence à une base, la surface du devant de celui-ci ayant une dureté extrêmement élevée alors que la partie interne et la surface arrière de celui-ci ont une dureté adéquate. Il est précisément exposé un corps composite organique-inorganique caractérisé en ce qu'il contient principalement un produit de condensation d'un composé organosilicié représenté par la formule (I) suivante : RnSiX4-n (dans laquelle R représente un groupe organique dont l'atome de carbone est directement lié à Si, X représente un groupe hydroxyle ou un groupe hydrolysable et n représente 1 ou 2) et en ce qu'il contient au moins un composé réactif par effet photochimique réactif à la lumière ayant une longueur d'onde qui n'est pas supérieure à 350 nm, lequel est sélectionné dans le groupe constitué de composés de chélates de métaux, de composés de sels de métaux d'acides organiques, de composés de métaux ayant deux ou plus de deux groupes hydroxyles ou groupes hydrolysables, de produits d'hydrolyse de ceux-ci et de produits de condensation de ceux-ci, et/ou un composé dérivé de celui-ci.
(JA) 表面が非常に高い硬度を有すると共に、内部及び裏面側が適当な硬度を有しつつ、かつ基体との密着性に優れた有機無機複合体を提供する。式(I): RSiX4-n(式中、Rは、式中のSiに炭素原子が直接結合するような有機基を表し、Xは、水酸基又は加水分解性基を表す。nは1又は2を表す。)で表される有機ケイ素化合物の縮合物を主成分とし、金属キレート化合物、金属有機酸塩化合物、2以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物、それらの加水分解物、及びそれらの縮合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の350nm以下の波長の光に感応する光感応性化合物、及び/又はそれから誘導される化合物を含有することを特徴とする有機無機複合体。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)