WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2006088026) PHOTOSENSITIVE MATERIAL FOR ELECTRICALLY CONDUCTIVE FILM FORMATION, ELECTRICALLY CONDUCTIVE FILM, LIGHT-TRANSPARENT ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELDING FILM, AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/088026    International Application No.:    PCT/JP2006/302552
Publication Date: 24.08.2006 International Filing Date: 14.02.2006
IPC:
H01B 1/20 (2006.01), G09F 9/00 (2006.01), H01B 5/14 (2006.01), H01B 13/00 (2006.01), H05K 9/00 (2006.01)
Applicants: FUJIFILM Corporation [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome Minato-ku, Tokyo 106-0031 (JP) (For All Designated States Except US).
NAKAHIRA, Shinichi; (For US Only)
Inventors: NAKAHIRA, Shinichi;
Agent: OGURI, Shohei; Eikoh Patent Office 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Priority Data:
2005-038188 15.02.2005 JP
Title (EN) PHOTOSENSITIVE MATERIAL FOR ELECTRICALLY CONDUCTIVE FILM FORMATION, ELECTRICALLY CONDUCTIVE FILM, LIGHT-TRANSPARENT ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELDING FILM, AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
(FR) MATERIAU PHOTOSENSIBLE POUR FORMATION DE FILM ELECTROCONDUCTEUR, FILM ELECTROCONDUCTEUR, FILM DE PROTECTION ELECTROMAGNETIQUE TRANSPARENT A LA LUMIERE ET PROCEDE DE FABRICATION CORRESPONDANT
(JA) 導電性膜形成用感光材料、導電性膜、透光性電磁波シールド膜、及びそれらの製造方法
Abstract: front page image
(EN)This invention provides a photosensitive material for electrically conductive film formation that can produce an electrically conductive film simultaneously having high electromagnetic wave shielding properties and high transparency and, further, improved pressure properties. The photosensitive material for electrically conductive film formation comprises a support and an emulsion layer containing a silver salt emulsion provided on the support. An electrically conductive film can be formed by exposing the emulsion layer, developing the exposed emulsion layer, and further subjecting the emulsion layer to physical development and/or plating treatment. The photosensitive material for electrically conductive film formation is characterized in that the emulsion layer is provided substantially as the uppermost layer and contains an antioxidant.
(FR)La présente invention concerne un matériau photosensible pour formation de film électroconducteur qui permet de produire un film électroconducteur présentant à la fois des propriétés de protection contre les ondes électromagnétiques, une grande transparence et des propriétés de pression renforcées. Le matériau photosensible pour formation de film électroconducteur comprend un support et une couche d'émulsion de sels d'argent placée sur ce support. Pour former le film électroconducteur, il est nécessaire d'exposer la couche d'émulsion, de développer la couche d'émulsion exposée et de soumettre la couche d'émulsion à un développement physique et/ou à un traitement d'électrodéposition. Le matériau photosensible pour formation de film électroconducteur se caractérise en ce que la couche d'émulsion représente la couche supérieure et contient un antioxydant.
(JA) 高い電磁波シールド性と高い透明性とを同時に有する導電性膜を製造することができ、かつ、圧力性が改善された導電性膜形成用感光材料を提供すること。  支持体上に銀塩乳剤を含む乳剤層を有し、前記乳剤層を露光して現像処理を施し、さらに物理現像および/またはメッキ処理を施すことにより導電性膜を製造可能な導電性膜形成用感光材料であって、  前記乳剤層が実質的に最上層に配置され、前記乳剤層に酸化防止剤を含有することを特徴とする導電性膜形成用感光材料。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)