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1. (WO2006087978) PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE EQUIPMENT AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/087978    International Application No.:    PCT/JP2006/302370
Publication Date: 24.08.2006 International Filing Date: 10.02.2006
IPC:
G02B 17/00 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (For All Designated States Except US).
TAKAHASHI, Tomowaki [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: TAKAHASHI, Tomowaki; (JP)
Agent: YAMAGUCHI, Takao; Daiichi Bldg. 10, Kanda-tsukasacho 2-chome Chiyoda-ku, Tokyo 101-0048 (JP)
Priority Data:
2005-038401 15.02.2005 JP
2005-320423 04.11.2005 JP
Title (EN) PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE EQUIPMENT AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) SYSTEME OPTIQUE DE PROJECTION, EQUIPEMENT D'EXPOSITION ET PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIF
(JA) 投影光学系、露光装置、およびデバイスの製造方法
Abstract: front page image
(EN)A reflection optical system which is provided with at least eight reflecting mirrors and is reduced in size in a diameter direction. For instance, a projection optical system which is provided with eight reflecting mirrors (M1-M8) and forms a reduced image of a first plane (4) on a second plane (7). The projection optical system is provided with a first reflecting image forming optical system (G1) for forming a first intermediate image (IMI1) of the first plane based on the light from the first plane, a second reflecting image forming optical system (G2) for forming a second intermediate image (IMI2) of the first plane based on the light from the first intermediate image, and a third reflecting image forming optical system (G3) for forming the reduced image on the second plane based on the light from the second intermediate image. The number of reflecting mirrors (M5-M8) configuring the third reflecting image forming optical system is more than the number of reflecting mirrors (M1, M2) configuring the first reflecting image forming optical system.
(FR)La présente invention concerne un système optique de réflexion qui comporte au moins huit miroirs réfléchissants et permet une réduction en taille dans le sens diamétral. L'invention peut concerner par exemple un système optique de projection comprenant huit miroirs réfléchissants (M1-M8) et formant une image réduite d'un premier plan (4) sur un second plan (7). Le système optique de projection comprend un premier système optique (G1) de formation d'image de réflexion servant à former une première image intermédiaire (IMI1) du premier plan à partir de la lumière émanant du premier plan, un deuxième système optique (G2) de formation d'image de réflexion servant à former une seconde image intermédiaire (IMI2) du premier plan à partir de la lumière émanant de la première image intermédiaire et un troisième système optique (G3) de formation d'image de réflexion servant à former l'image réduite sur le second plan à partir de la lumière provenant de la seconde image intermédiaire. Le nombre de miroirs réfléchissants (M5-M8) qui composent le troisième système optique de formation d'image de réflexion est supérieur à celui des miroirs réfléchissants (M1, M2) qui composent le premier système optique de formation d'image de réflexion.
(JA) 少なくとも8枚の反射鏡を備えた反射型光学系であって、径方向に小型化された投影光学系。例えば、8個の反射鏡(M1~M8)を備え、第1面(4)の縮小像を第2面(7)上に形成する投影光学系。第1面からの光に基づいて第1面の第1中間像(IMI1)を形成するための第1反射結像光学系(G1)と、第1中間像からの光に基づいて第1面の第2中間像(IMI2)を形成するための第2反射結像光学系(G2)と、第2中間像からの光に基づいて縮小像を第2面上に形成するための第3反射結像光学系(G3)とを備えている。第3反射結像光学系を構成する反射鏡(M5~M8)の数は、第1反射結像光学系を構成する反射鏡(M1,M2)の数よりも多い。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)