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1. (WO2006087966) METHOD OF REMOVING ORGANIC COATING AND PHOTOLITHOGRAPHIC PROCESS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/087966    International Application No.:    PCT/JP2006/302275
Publication Date: 24.08.2006 International Filing Date: 09.02.2006
IPC:
G03F 7/42 (2006.01), B08B 3/08 (2006.01), G02F 1/13 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), H01L 21/304 (2006.01)
Applicants: TOAGOSEI CO., LTD. [JP/JP]; 14-1, Nishi Shimbashi 1-chome Minato-ku, Tokyo 1058419 (JP) (For All Designated States Except US).
NIIZUMA, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
IINUMA, Tomohisa [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: NIIZUMA, Hiroshi; (JP).
IINUMA, Tomohisa; (JP)
Agent: KOJIMA, Seiji; ATSUTA DAIDOSEIMEI-Bldg.2F 7-26, Jingu 3-chome Atsuta-ku, Nagoya-shi Aichi 4560031 (JP)
Priority Data:
2005-042775 18.02.2005 JP
Title (EN) METHOD OF REMOVING ORGANIC COATING AND PHOTOLITHOGRAPHIC PROCESS
(FR) PROCEDE DE RETRAIT D'UN ENDUIT ORGANIQUE ET PROCESSUS PHOTOLITHOGRAPHIQUE
(JA) 有機被膜の除去方法及びフォトリソグラフィー方法
Abstract: front page image
(EN)A method of efficiently removing an organic coating from a base material while inhibiting any drop of peelability of the organic coating. There is provided a method of removing an organic coating, comprising bringing an organic coating adhering to a base material into contact with a peel solution consisting of an organic solvent and having undergone regeneration treatment through ozonization to thereby attain the removal, wherein the peel solution is brought into contact with the organic coating while maintaining the total content of carboxylic acid component and carboxylic ester component in the peel solution at ≤ 30 mass%. As the peel solution, use is made of an alkylene carbonate, such as ethylene carbonate or propylene carbonate.
(FR)La présente invention concerne un procédé permettant de retirer efficacement un enduit organique d'un matériau de base en évitant toute perte de pelabilité de l'enduit organique. Ledit procédé consiste à mettre en contact un enduit organique adhérant à un matériau de base avec une solution de décollage comprenant un solvant organique et ayant subi un traitement de régénération, afin d'aboutir au retrait de l'enduit. Lors de la mise en contact de la solution de décollage avec l'enduit organique, le contenu total du composant acide carboxylique et du composant ester carboxylique est maintenu inférieur ou égal à 30 % en poids dans la solution de décollage. Un carbonate d'alkylène, tel qu'un carbonate d'éthylène ou un carbonate de propylène, est utilisé en tant que solution de décollage.
(JA) 本発明の目的は、有機被膜の剥離性の低下を抑止して、効率的に基体上の有機被膜を除去する方法を提供することである。本発明の有機被膜の除去方法では、基体に付着した有機被膜を、有機溶剤からなり、かつ、オゾン処理による再生処理を施した剥離液と接触させて除去するに際して、該剥離液中のカルボン酸成分及びそのエステル成分の合計量を30質量%以下に維持しつつ、有機被膜と剥離液とを接触させる。剥離液として、炭酸エチレン及び炭酸プロピレン等の炭酸アルキレンを用いる。 
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)