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1. (WO2006086329) PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF ORGANOMETALLIC COMPOUNDS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/086329    International Application No.:    PCT/US2006/004166
Publication Date: 17.08.2006 International Filing Date: 08.02.2006
IPC:
B29C 39/00 (2006.01), C23C 16/18 (2006.01)
Applicants: PRAXAIR TECHNOLOGY, INC. [US/US]; 39 Old Ridgebury Road, Danbury, Connecticut 06810-5113 (US) (For All Designated States Except US).
THOMPSON, David, Michael [CA/US]; (US) (For US Only)
Inventors: THOMPSON, David, Michael; (US)
Agent: COON, Gerald, L.; PRAXIAR, INC., 39 Old Ridgebury Road, Danbury, Connecticut 06810-5113 (US)
Priority Data:
11/053,836 10.02.2005 US
Title (EN) PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF ORGANOMETALLIC COMPOUNDS
(FR) PROCÉDÉS POUR LA PRODUCTION DE COMPOSÉS ORGANOMÉTALLIQUES
Abstract: front page image
(EN)This invention relates to processes for the production of organometallic compounds represented by the formula M(L)3 wherein M is a Group VIII metal, e.g., ruthenium, and L is the same or different and represents a substituted or unsubstituted amidinato group or a substituted or unsubstituted amidinato-like group, which process comprises (i) reacting a substituted or unsubstituted metal source compound, e.g., ruthenium (II) compound, with a substituted or unsubstituted amidinate or amidinate-like compound in the presence of a solvent and under reaction conditions sufficient to produce a reaction mixture comprising said organometallic compound, e.g., ruthenium (III) compound, and (ii) separating said organometallic compound from said reaction mixture. The organometallic compounds are useful in semiconductor applications as chemical vapor or atomic layer deposition precursors for film depositions.
(FR)Cette invention concerne des procédés pour la production de composés organométalliques représentés par la formule M(L)3 dans laquelle M est un métal du groupe VIII, par exemple le ruthénium, et chaque L est identique ou différent des autres et représente un groupe amidinato substitué ou non ou un groupe de type amidinato substitué ou non, lequel procédé comprend (i) la réaction d'un composé source de métal substitué ou non, par exemple un composé du ruthénium (II), avec un composé amidinate ou de type amidinate substitué ou non en présence d'un solvant et dans des conditions de réaction suffisantes pour produire un mélange de réaction comprenant ledit composé organométallique, par exemple un composé du ruthénium (III), et (ii) la séparation dudit composé organométallique dudit mélange de réaction. Les composés organométalliques sont utiles dans des applications pour des semi-conducteurs en tant que précurseurs de dépôt chimique en phase vapeur ou de dépôt de couche atomique pour des dépôts de films.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)