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1. (WO2006085924) ACTIVE ARMOR FOR PRODUCING AN ELECTRICAL/MAGNETIC FIELD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/085924    International Application No.:    PCT/US2005/020571
Publication Date: 17.08.2006 International Filing Date: 10.06.2005
IPC:
F41H 5/007 (2006.01)
Applicants: BAE SYSTEMS INFORMATION AND ELECTRONIC SYSTEMS INTEGRATION INC. [US/US]; 65 Spit Brook Road, NHQ01-719, Nashua, NH 03060 (US) (For All Designated States Except US).
ZANK, Paul, A. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: ZANK, Paul, A.; (US)
Agent: LONG, Daniel, J.; BAE Systems Information And Electronic Systems, Integration INC., 65 Spit Brook Road, NHQ01-719, Nashua, NH 03060 (US)
Priority Data:
10/871,146 18.06.2004 US
Title (EN) ACTIVE ARMOR FOR PRODUCING AN ELECTRICAL/MAGNETIC FIELD
(FR) BLINDAGE ACTIF COMPRENANT UNE COUCHE METALLIQUE POUR LA PRODUCTION D'UN CHAMP MAGNETIQUE OU ELECTRIQUE
Abstract: front page image
(EN)An active armor system, which includes a first armor layer and a second armor layer. An interior space is interposed between the first and second armor layer. A third layer is also positioned preferably adjacent to and on the inner side of the first layer This third layer is comprised of a material selected from a piezoelectric material, and electrostrictive material, and a magnetostrictive material. The third layer may also be characterized as any material capable of producing an electrical or magnetic field within the space in response to the application of mechanical force on this third layer. The application of force on the third layer as a result of the impacting of a shaped charge projectile on the first armor layer will result in the production of an electric or magnetic charge in the interior space which will disrupt the formation of the shaped charge gas jet so as to prevent the penetration of the second armor layer.
(FR)L'invention concerne un système de blindage actif comprenant une première et une seconde couche de blindage. Un espace intérieur est ménagé entre les première et seconde couches de blindage. Une troisième couche se trouve également de préférence sur le côté intérieur de la première couche, de manière qu'elle soit adjacente à celui-ci. Cette troisième couche comprend une matière choisie parmi une matière piézorésistive, une matière électrostrictive et une matière magnétostrictive. Elle peut également se caractériser comme étant une matière capable de produire un champ magnétique ou électrique dans l'espace en réponse à l'application d'une force mécanique sur cette troisième couche. L'application de force sur la troisième couche, résultant de l'impact sur la première couche de blindage d'un projectile à charge de géométrie définie induit la production d'une charge magnétique ou électrique dans l'espace intérieur, ce qui interrompt la formation du jet de gaz de charge de géométrie prédéfinie et empêche ainsi la pénétration dans la seconde couche de blindage.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)