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1. (WO2006085741) PROCESS FOR PREPARING A POLYMERIC RELIEF STRUCTURE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/085741    International Application No.:    PCT/NL2005/000106
Publication Date: 17.08.2006 International Filing Date: 09.02.2005
IPC:
G03F 7/00 (2006.01), G03F 7/36 (2006.01), G03F 7/095 (2006.01)
Applicants: STICHTING DUTCH POLYMER INSTITUTE [NL/NL]; John F. Kennedylaan 2, NL-5612 AB Eindhoven (NL) (For All Designated States Except US).
BASTIAANSEN, Cees [NL/NL]; (NL) (For US Only).
BROER, Dick [NL/NL]; (NL) (For US Only).
SANCHEZ, Carlos [ES/NL]; (NL) (For US Only)
Inventors: BASTIAANSEN, Cees; (NL).
BROER, Dick; (NL).
SANCHEZ, Carlos; (NL)
Agent: NIEUWKAMP, Johannes, Gerardus, Maria; DSM Intellectual Property, P.O. Box 9, NL-6160 MA Geleen (NL)
Priority Data:
Title (EN) PROCESS FOR PREPARING A POLYMERIC RELIEF STRUCTURE
(FR) PROCÉDÉ SERVANT À PRÉPARER UNE STRUCTURE POLYMÉRIQUE EN RELIEF
Abstract: front page image
(EN)The present invention relates to a process for the preparation of a polymeric relief structure by a) coating a substrate with a first coating composition comprising one or more radiation-sensitive ingredients, d) locally treating the coated substrate with electromagnetic radiation having a periodic or random radiation-intensity pattern, forming a latent image, e) polymerizing and/or crosslinking the resulting coated substrate to a first coating. This process is improved by applying a second coating composition on top of the first coating composition, said second coating composition comprising either an organic compound (Co) of a monomeric nature and wherein Co is also polymerized during the process, or wherein said second coating comprises a dissolved polymer (Cp). As a result a polymeric relief structure is obtained, where a substrate is coated with a functional, stacked, bi-layer, in which each layer exhibits a specific, and from eachother differing function.
(FR)La présente invention concerne un procédé pour la préparation d'une structure polymérique en relief en a) recouvrant un substrat avec une première composition de revêtement comprenant un ou plusieurs ingrédients sensibles aux rayonnements, d) traitant localement le substrat recouvert avec un rayonnement électromagnétique ayant un dessin périodique ou aléatoire de l'intensité du rayonnement, formant ainsi une image latente, e) polymérisant et/ou réticulant le substrat recouvert résultant pour former un premier revêtement. Ce procédé est amélioré en appliquant une seconde composition de revêtement par-dessus la première composition de revêtement, ladite seconde composition de revêtement comprenant soit un composé organique (Co) de nature monomérique et également polymérisé au cours du procédé, soit un polymère dissout (Cp). En conséquence on obtient une structure polymérique en relief, dans laquelle un substrat est recouvert de deux couches fonctionnelles l'une sur l'autre, chaque couche présentant une fonction spécifique et différente de l'autre.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)