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1. (WO2006085419) POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/085419    International Application No.:    PCT/JP2005/022971
Publication Date: 17.08.2006 International Filing Date: 14.12.2005
IPC:
G03F 7/039 (2006.01), C08F 212/14 (2006.01), C08F 220/26 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 150, Nakamaruko Nakahara-ku, Kawasaki-shi Kanagawa 211-0012 (JP) (For All Designated States Except US).
HIROSAKI, Takako [JP/JP]; (JP) (For US Only).
ANDO, Tomoyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
HOJO, Takuma [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: HIROSAKI, Takako; (JP).
ANDO, Tomoyuki; (JP).
HOJO, Takuma; (JP)
Agent: TANAI, Sumio; 2-3-1, Yaesu Chuo-ku, Tokyo 104-8453 (JP)
Priority Data:
2005-034103 10.02.2005 JP
Title (EN) POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
(FR) FORMULE DE PHOTORÉSINE POSITIVE ET MÉTHODE DE FORMATION D'UN MOTIF SUR LA PHOTORÉSINE
(JA) ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
Abstract: front page image
(EN)A positive resist composition capable of forming a high-resolution pattern reduced in LER. The positive resist composition comprises: a resin ingredient (A) which has acid-dissociable dissolution-inhibitive groups and comes to have enhanced alkali solubility by the action of an acid; and an acid generator ingredient (B) which generates an acid upon exposure to light. The positive resist composition is characterized in that the resin ingredient (A) comprises a polymer having a structural unit (a1) derived from hydroxystyrene and a structural unit (a2) derived from an acrylic ester having an acid-dissociable dissolution-inhibitive group and having a fluorine atom or lower fluoroalkyl group bonded to the &agr;-position.
(FR)La présente invention porte sur une formule de photorésine positive susceptible de former un motif de haute résolution et de rugosité de flancs de motif (LER) réduite. Ladite formule de résine positive comprend : un composant résine (A) portant des groupements dissociables en milieu acide et inhibant la dissolution, et dont la solubilité en milieu basique est améliorée par l'action d'un acide ; et un composant générateur d'acide (B) qui génère un acide sous l'action de la lumière. La formule de résine positive est caractérisée en ce que le composant résine (A) comprend un polymère présentant un motif de répétition (a1) dérivé de l'hydroxystyrène et un motif de répétition (a2) dérivé d'un ester acrylique présentant un groupement dissociable en milieu acide et inhibant la dissolution, et portant en position &agr; un atome de fluor ou un groupement fluoroalkyle court.
(JA) LERの低減された高解像性のパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法が提供される酸解離性溶解抑制基を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含むポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分(A)が、ヒドロキシスチレンから誘導される構成単位(a1)と、酸解離性溶解抑制基を有しかつα位にフッ素原子またはフッ素化低級アルキル基が結合したアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a2)とを有する高分子化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)