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1. (WO2006085405) METHOD OF QUANTITATIVE DETERMINATION OF ATOMIC HYDROGEN, APPARATUS THEREFOR, METHOD OF ADSORPTION REMOVAL OF ATOMIC HYDROGEN AND APPARATUS THEREFOR
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/085405    International Application No.:    PCT/JP2005/017266
Publication Date: 17.08.2006 International Filing Date: 20.09.2005
Chapter 2 Demand Filed:    16.02.2006    
IPC:
G01N 27/62 (2006.01)
Applicants: National University Corporation Kyushu Insutituteof Technology [JP/JP]; 1-1 Sensui-cho, Tobata-ku Kitakyushu-shi, Fukuoka 8048550 (JP) (For All Designated States Except US).
NAMIKI, Akira [JP/JP]; (JP) (For US Only).
IZUMI, Akira [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TSURUMAKI, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: NAMIKI, Akira; (JP).
IZUMI, Akira; (JP).
TSURUMAKI, Hiroshi; (JP)
Agent: UCHIDA, Masaru; 24-18, Kamiogi, 1-chome Suginami-ku, Tokyo 1670043 (JP)
Priority Data:
2005-035392 14.02.2005 JP
Title (EN) METHOD OF QUANTITATIVE DETERMINATION OF ATOMIC HYDROGEN, APPARATUS THEREFOR, METHOD OF ADSORPTION REMOVAL OF ATOMIC HYDROGEN AND APPARATUS THEREFOR
(FR) PROCÉDÉ DE DÉTERMINATION QUANTITATIVE D’HYDROGÈNE ATOMIQUE, APPAREIL IDOINE, PROCÉDÉ D’ENLÈVEMENT PAR ADSORPTION D’HYDROGÈNE ATOMIQUE ET APPAREIL IDOINE
(JA) 原子状水素定量方法およびその装置ならびに原子状水素吸着除去方法およびその装置
Abstract: front page image
(EN)A method of quantitative determination of atomic hydrogen, in which the quantitative determination of atomic hydrogen can be carried out easily and accurately; an apparatus therefor; a method of removal of atomic hydrogen, in which any atomic hydrogen can be removed; and an apparatus therefor. There is provided apparatus (10) for quantitative determination of atomic hydrogen, comprising sensor chamber (12), sensor substrate (14), heating means (16), atomic deuterium emission unit (24) and mass spectrometer (26). The sensor substrate (14) is irradiated with atomic deuterium, and the sensor substrate (14) is exposed to a measuring object gas containing atomic hydrogen. The intensities of HD and deuterium desorbed from the sensor substrate (14) are measured, from which the amount of atomic deuterium remaining on the sensor substrate (14) is computed. On the basis of an intensity correlationship by mass spectrometry between the in-advance determined atomic hydrogen irradiation amount to the sensor substrate (14) and amount of atomic deuterium remaining on the sensor substrate (14), there is accomplished the quantitative determination of atomic hydrogen in the measuring object gas.
(FR)L’invention concerne un procédé de détermination quantitative d’hydrogène atomique, dans lequel la détermination quantitative d’hydrogène atomique peut s’effectuer facilement et avec précision ; un appareil idoine; un procédé d’enlèvement d’hydrogène atomique, permettant d’enlever l’hydrogène atomique ; et un appareil idoine. Elle concerne un appareil (10) de détermination quantitative d’hydrogène atomique, comprenant une chambre de capteur (12), un substrat capteur (14), un moyen de chauffage (16), une unité d’émission de deutérium atomique (24) et un spectromètre de masse (26). Le substrat capteur (14) est irradié avec du deutérium atomique, et le substrat capteur (14) est exposé à un gaz objet de mesure contenant de l’hydrogène atomique. Les intensités de HD et de deutérium désorbés du substrat capteur (14) sont mesurées, pour alors calculer la quantité de deutérium atomique restant sur le substrat capteur (14). Sur la base d’une corrélation d’intensité par spectrométrie de masse entre la quantité d’irradiation d’hydrogène atomique sur le substrat capteur (14) déterminée par avance et la quantité de deutérium atomique restant sur le substrat capteur (14), on peut déterminer quantitativement l’hydrogène atomique dans le gaz objet de mesure.
(JA) 原子状水素の定量を簡便かつ正確に行うことができる原子状水素定量方法およびその装置ならびに原子状水素を除去することができる原子状水素除去方法およびその装置を提供する。原子状水素定量装置10は、センサー室12、センサー基板14、加熱機構16、原子状重水素発生装置24および質量分析装置26を備える。原子状重水素をセンサー基板14に照射し、センサー基板14を原子状水素を含む測定対象ガスに曝露し、センサー基板14から脱離するHDおよび重水素の強度を測定して、これよりセンサー基板14に残存する原子状重水素量を算出し、予め求めておいたセンサー基板14に対する原子状水素照射量とセンサー基板14に残存する原子状重水素量との質量分析による強度の相関関係に基づいて、測定対象ガス中の原子状水素を定量する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)