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1. (WO2006084686) MULTILAYER BODY INCLUDING A DIFFRACTIVE RELIEF STRUCTURE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/084686    International Application No.:    PCT/EP2006/001127
Publication Date: 17.08.2006 International Filing Date: 09.02.2006
Chapter 2 Demand Filed:    07.12.2006    
IPC:
B42D 15/10 (2006.01), B44C 1/14 (2006.01)
Applicants: OVD KINEGRAM AG [CH/CH]; Zählerweg 12, CH-6301 Zug (CH) (For All Designated States Except US).
STAUB, René [CH/CH]; (CH) (For US Only).
TOMPKIN, Wayne, Robert [US/CH]; (CH) (For US Only).
SCHILLING, Andreas [DE/CH]; (CH) (For US Only)
Inventors: STAUB, René; (CH).
TOMPKIN, Wayne, Robert; (CH).
SCHILLING, Andreas; (CH)
Agent: ZINSINGER, Norbert; Louis Pöhlau Lohrentz, Postfach 30 55, 90014 Nürnberg (DE)
Priority Data:
10 2005 006 277.6 10.02.2005 DE
Title (DE) MEHRSCHICHTKÖRPER MIT DIFFRAKTIVER RELIEFSTRUKTUR UND HERSTELLVERFAHREN
(EN) MULTILAYER BODY INCLUDING A DIFFRACTIVE RELIEF STRUCTURE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
(FR) CORPS MULTICOUCHE ET PROCEDE DE FABRICATION DUDIT CORPS
Abstract: front page image
(DE)Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines Mehrschichtkörpers (100) mit einer partiell ausgeformten ersten Schicht (3m) beschrieben und ein auf diese Weise hergestellter Mehrschichtkörper. Es ist vorgesehen, daß in einem ersten Bereich einer Replizierschicht (3) des Mehrschichtkörpers eine diffraktive erste Relief struktur (4) abgeformt wird, daß die erste Schicht (3m) auf die Replizierschicht (3) in dem ersten Bereich und in einem zweiten Bereich, in dem die erste Relief struktur nicht in der Replizierschicht (3) abgeformt ist, aufgebracht wird, daß auf die erste Schicht (3) eine photoempfindliche Schicht (8) aufgebracht wird oder als Replizierschicht eine photoempfindliche Waschmaske (8) aufgebracht wird, daß die photoempfindliche Schicht bzw. Waschmaske durch die erste Schicht (3m) hindurch belichtet wird, so daß die photoempfindliche Schicht bzw. Waschmaske (8) durch die erste Relief struktur bedingt im ersten und im zweiten Bereich unterschiedlich belichtet wird, und daß die erste Schicht (3m) unter Verwendung der belichteten photoempfindlichen Schicht bzw. Waschmaske (8) als Maskenschicht im ersten Bereich, nicht jedoch im zweiten Bereich oder im zweiten Bereich, nicht jedoch im ersten Bereich entfernt wird.
(EN)The invention relates to a method for producing a multilayer body (100) having a partially molded first layer (3m) and to a multilayer body produced according to said method. The method is characterized in that a diffractive first relief structure (4) is molded into a first area of a replicating layer (3) of the multilayer body, the first layer (3m) is applied to the replicating layer (3) in the first area and in a second area in which the first relief structure is not molded into the replicating layer (3), a photosensitive layer (8) is applied to the first layer (3) or a photosensitive washing mask (8) is applied as the replicating layer, the photosensitive layer or the washing mask are irradiated through the first layer (3m), thereby irradiating the photosensitive layer or washing mask (8) differently in the first and in the second area depending on the first relief structure, and the first layer (3m) is removed, while using the irradiated photosensitive layer or the washing mask (8) as the mask layer, in the first area, but not in the second area, or is removed in the second area, but not in the first area.
(FR)Procédé de fabrication d'un corps multicouche (100) pourvu d'une première couche (3m) partiellement structurée et corps multicouche fabriqué de cette manière. Selon la présente invention, une première structure en relief (4) de diffraction est formée dans une première zone d'une couche de réplication (3) du corps multicouche, la première couche (3m) est appliquée sur la couche de réplication (3) dans la première zone et dans une seconde zone dans laquelle la première structure en relief n'est pas formée dans la couche de réplication (3), une couche photosensible est appliquée sur la première couche (3) ou bien un masque de lavage photosensible est appliqué en tant que couche de réplication, la couche ou le masque de lavage photosensible est éclairé à travers la première couche (3m) si bien que la couche ou le masque de lavage photosensible est éclairé de manière différente dans les première et seconde zones en raison de la première structure en relief, et la première couche (3m) est éliminée, à l'aide de la couche ou du masque de lavage photosensible éclairé en tant que couche de masquage, dans la première zone mais pas dans la seconde, ou dans la seconde zone mais pas dans la première.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)