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1. (WO2006083886) ION SOURCE FOR USE IN AN ION IMPLANTER
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/083886    International Application No.:    PCT/US2006/003429
Publication Date: 10.08.2006 International Filing Date: 31.01.2006
IPC:
H01J 37/317 (2006.01), H01J 27/02 (2006.01), H01J 37/08 (2006.01)
Applicants: AXCELIS TECHNOLOGIES, INC. [US/US]; 108 Cherry Hill Drive, Beverly, Massachusetts 01915 (US) (For All Designated States Except US).
BECKER, Klaus [DE/US]; (US) (For US Only).
BAER, Werner [DE/US]; (US) (For US Only).
PETRY, Klaus [DE/US]; (US) (For US Only)
Inventors: BECKER, Klaus; (US).
BAER, Werner; (US).
PETRY, Klaus; (US)
Priority Data:
11/049,913 03.02.2005 US
Title (EN) ION SOURCE FOR USE IN AN ION IMPLANTER
(FR) SOURCE IONIQUE DESTINEE A ETRE UTILISEE DANS UN IMPLANTEUR IONIQUE
Abstract: front page image
(EN)An ion implanter (10) having a source (18), a workpiece support and a transport system for delivering ions from the source to an ion implantation chamber (16) that contains the workpiece support. The ion source has an arc chamber (110) for ionizing a source material routed into the arc chamber that defines an exit aperture (114) for routing ions to the transport system and including an arc chamber flange (120) attached to the arc chamber and including a first surface (122) that defines a gas inlet (124) which accepts gas from a source (30) and a gas outlet (130) which opens into the arc chamber. An arc chamber support includes a support flange (142) having a conforming surface (144) that sealingly engages the first surface of arc chamber flange at a region of the gas inlet and further includes a throughpassage (146) that aligns with the gas inlet. A gas supply line (26/126) routes gas from a gas source through the throughpassage of the support flange and into the gas inlet of said arc chamber flange.
(FR)L'invention concerne un implanteur ionique possédant une source, un support de pièce à travailler et un système de transport destiné à délivrer des ions à partir de la source vers une chambre d'implantation ionique qui contient un support de pièce à travailler. La source ionique comporte un tube à arc destiné à ioniser une matière source acheminée dans le tube à arc qui définit une ouverture de sortie dans l'acheminement des ions vers le système de transport et comprenant une bride de tube à arc fixée au tube à arc et comprenant une première surface qui définit une entrée de gaz laquelle accepte le gaz provenant d'une source et une sortie de gaz qui s'ouvre sur le tube à arc. Le support de tube à arc comprend une bride support possédant une surface conforme qui couple de façon étanche la première surface d'une bride de tube à arc à une zone de l'entrée de gaz et qui comprend en outre un passage traversant aligné avec l'entrée de gaz. Une ligne d'alimentation de gaz achemine le gaz à partir d'une source de gaz à travers le passage traversant de la bride support, puis dans l'entrée de gaz de la bride du tube à arc.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)