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1. (WO2006082739) TANTALUM COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING SAME, TANTALUM-CONTAINING THIN FILM AND METHOD FOR FORMING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/082739    International Application No.:    PCT/JP2006/301116
Publication Date: 10.08.2006 International Filing Date: 25.01.2006
IPC:
C07F 9/00 (2006.01), C07F 17/00 (2006.01), C23C 16/30 (2006.01)
Applicants: TOSOH CORPORATION [JP/JP]; 4560, Kaisei-cho, Shunan-shi, Yamaguchi 7468501 (JP) (For All Designated States Except US).
SAGAMI CHEMICAL RESEARCH CENTER [JP/JP]; 2743-1, Hayakawa, Ayase-shi, Kanagawa 2521193 (JP) (For All Designated States Except US).
SEKIMOTO, Kenichi; (For US Only).
TADA, Ken-ichi; (For US Only).
TAKAMORI, Mayumi; (For US Only).
YAMAKAWA, Tetsu; (For US Only).
FURUKAWA, Taishi; (For US Only).
OSHIMA, Noriaki; (For US Only)
Inventors: SEKIMOTO, Kenichi; .
TADA, Ken-ichi; .
TAKAMORI, Mayumi; .
YAMAKAWA, Tetsu; .
FURUKAWA, Taishi; .
OSHIMA, Noriaki;
Agent: MIYAKOSHI, Noriaki; Shin-ei Patent Office 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome Minato-ku Tokyo 1050003 (JP)
Priority Data:
2005-026727 02.02.2005 JP
2005-026728 02.02.2005 JP
2005-243053 24.08.2005 JP
2005-243054 24.08.2005 JP
Title (EN) TANTALUM COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING SAME, TANTALUM-CONTAINING THIN FILM AND METHOD FOR FORMING SAME
(FR) COMPOSÉ DU TANTALE, PROCÉDÉ SERVANT À PRODUIRE CELUI-CI, FILM MINCE CONTENANT DU TANTALE ET PROCÉDÉ SERVANT À FORMER CELUI-CI
(JA) タンタル化合物、その製造方法、タンタル含有薄膜、及びその形成方法
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a novel tantalum compound which enables to selectively form a tantalum-containing film which does not include a halogen or the like, or a tantalum-containing film which includes a desired element. Also disclosed are a method for producing such a tantalum compound, and a method for forming a tantalum-containing film which includes a desired element. Specifically disclosed is a tantalum compound represented by the general formula (1) or (2) below. [Chemical formula 1] (1) (In the formula (1), R1 represents a straight-chain alkyl group having 2-6 carbon atoms.) [Chemical formula 2] (2) (In the formula (2), R2 represents a straight-chain alkyl group having 2-6 carbon atoms.) Also specifically disclosed is a method for forming a tantalum-containing film by using a tantalum compound represented by the general formula (6) below as a raw material. [Chemical formula 3] (6) (In the formula (6), j, k, m and n respectively represent an integer of 1-4 satisfying j + k = 5 and m + n = 5; and R3-R6 respectively represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1-6 carbon atoms or the like.)
(FR)Il est exposé un nouveau composé du tantale lequel permet de former sélectivement un film contenant du tantale qui ne comprend pas un halogène ou similaire ou un film contenant du tantale qui comprend un élément souhaité. Il est également exposé un procédé servant à produire un tel composé du tantale et un procédé servant à former un film contenant du tantale qui comprend un élément souhaité. Il est précisément exposé un composé du tantale représenté par la formule générale (1) ou (2) ci-dessous. [Formule chimique 1] (1) (Dans la formule (1), R1 représente un groupe alkyle à chaîne linéaire ayant 2-6 atomes de carbone.) [Formule chimique 2] (2) (Dans la formule (2), R2 représente un groupe alkyle à chaîne linéaire ayant 2-6 atomes de carbone.) Il est également précisément exposé un procédé servant à former un film contenant du tantale en utilisant un composé du tantale représenté par la formule générale (6) ci-dessous comme matière de départ. [Formule chimique 3] (6) (Dans la formule (6), j, k, m et n représentent chacun un nombre entier de 1-4 satisfaisant aux relations j + k = 5 et m + n = 5 ; et R3-R6 représentent chacun un atome d'hydrogène, un groupe alkyle ayant 1-6 atomes de carbone ou similaire.)
(JA) 本発明の課題は、ハロゲン等を含まないタンタル含有薄膜及び目的とする元素を含んだ各種タンタル含有薄膜の作り分けが可能な新規なタンタル化合物及びその製造方法を提供することであり、また、目的とする元素を含むタンタル含有薄膜を安定に形成する方法を提供することである。  本発明は、下記一般式(1)    (式中Rは炭素数2から6の直鎖状アルキル基を示す。)、又は下記一般式(2)   (式中Rは炭素数2から6の直鎖状アルキル基を示す。)で表されるタンタル化合物、及びその製造方法に係わる。また本発明は、下記一般式(6)    (式中、j、k、m及びnは、j+k=5、m+n=5を満たす1~4の整数、R~Rは水素原子、炭素数1から6のアルキル基等を示す。)で表されるタンタル化合物を原料として用い、タンタル含有薄膜を形成することに係わる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)