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1. (WO2006080565) METHOD FOR RECOVERING INDIUM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/080565    International Application No.:    PCT/JP2006/301819
Publication Date: 03.08.2006 International Filing Date: 27.01.2006
IPC:
C22B 58/00 (2006.01), C22B 3/44 (2006.01), C22B 7/00 (2006.01), C22C 28/00 (2006.01), C25C 1/22 (2006.01)
Applicants: DOWA METALS & MINING CO., LTD. [JP/JP]; 14-1, Sotokanda 4-chome, Chiyoda-ku, Tokyo, 1018617 (JP) (For All Designated States Except US).
NAKAMURA, Yuzuru [JP/JP]; (JP) (For US Only).
OGASAWARA, Shigeru [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KOMORI, Atsushi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
AOSAKI, Hitoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TSUKADA, Akira [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: NAKAMURA, Yuzuru; (JP).
OGASAWARA, Shigeru; (JP).
KOMORI, Atsushi; (JP).
AOSAKI, Hitoshi; (JP).
TSUKADA, Akira; (JP)
Agent: OKAWA, Koichi; Okawa Patent Office Aoyagi Bldg. 14-6, Hatchobori 2-chome Chuo-ku, Tokyo 1040032 (JP)
Priority Data:
2005-022836 31.01.2005 JP
Title (EN) METHOD FOR RECOVERING INDIUM
(FR) PROCEDE DESTINE A LA RECUPERATION DE L’INDIUM
(JA) インジウムの回収方法
Abstract: front page image
(EN)This invention provides a method for recovering indium which can recover high-purity indium in a simple process at low cost in a short time with high recovery. High-purity indium is recovered by disintegrating an indium-containing material such as an ITO target scrap, then grinding the material to such a level that the proportion of coarse particles having a diameter larger than a predetermined particle diameter is a predetermined value or less, then dissolving the particles in an acid, adding an alkali to the resultant solution to adjust pH to 0.5 to 4, subjecting the solution to ripening at a temperature of 60 to 70°C for 3 hr or longer, precipitating and removing as a hydroxide predetermined metal ions in the solution, then blowing hydrogen sulfide gas into the solution, precipitating and removing as a sulfide metal ions harmful in electrolysis in the next step, and then electrowinning an indium metal using this solution as an electrolysis solution.
(FR)La présente invention concerne un procédé destiné à la récupération de l'indium qui peut permettre de récupérer de l'indium de grande pureté à l’aide d’un procédé simple à faible coût sur une période courte avec un taux de récupération élevé. L'indium de grande pureté est récupéré en désagrégeant un matériau contenant de l’indium tel qu'un déchet de cible ITO, puis en broyant le matériau jusqu’à un degré tel que la proportion de grosses particules ayant un diamètre supérieur à un diamètre de particules prédéterminé atteigne ou soit inférieure à une valeur prédéterminée, puis en dissolvant les particules dans un acide, en ajoutant un alcali à la solution résultante de manière à ajuster le pH entre 0,5 et 4, en soumettant la solution à une maturation à une température de 60 à 70 °C pendant 3 heures ou plus, en faisant précipiter et en retirant sous la forme d’un hydroxyde prédéterminé d’ions métalliques dans la solution, puis en soufflant un gaz de sulfure d'hydrogène dans la solution, en faisant précipiter et retirant sous la forme d’ions de sulfure de métal nocifs à l’électrolyse dans l’étape suivante, et puis au moyen d’une extraction par voie électrolytique d’un métal indium en utilisant cette solution en tant que solution d'électrolyse.
(JA) 簡単な工程で、安価に、短時間で且つ高回収率で高純度のインジウムを回収することができる、インジウム回収方法を提供する。ITOターゲット屑などのインジウム含有物を解砕した後、所定の粒径より大きい粗粒が所定の割合以下になるまで粉砕し、その後、酸で溶解し、この溶解液にアルカリを加えてpHが0.5~4になるように中和し、60~70℃の温度で3時間以上熟成させ、溶解液中の所定の金属イオンを水酸化物として析出させて除去し、次いで、これに硫化水素ガスを吹き込み、次工程の電解に有害な金属イオンを硫化物として析出除去した後、この溶解液を電解液としてインジウムメタルを電解採取することにより、高純度のインジウムを回収する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)