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1. (WO2006080456) COATING COMPOSITION, OPTICAL FILM, ANTIREFLECTION FILM, POLARIZING PLATE, AND DISPLAY EMPLOYING THESE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/080456    International Application No.:    PCT/JP2006/301348
Publication Date: 03.08.2006 International Filing Date: 27.01.2006
IPC:
C09D 201/04 (2006.01), B05D 7/24 (2006.01), B32B 27/30 (2006.01), C08F 220/22 (2006.01), C08F 220/38 (2006.01), C09D 133/16 (2006.01), G02B 5/30 (2006.01)
Applicants: FUJIFILM Corporation [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo, 106-0031 (JP) (For All Designated States Except US).
YOSHIZAWA, Masataka; (For US Only).
NORO, Masaki; (For US Only).
SUZUKI, Takato; (For US Only)
Inventors: YOSHIZAWA, Masataka; .
NORO, Masaki; .
SUZUKI, Takato;
Agent: OGURI, Shohei; Eikoh Patent Office, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Priority Data:
2005-019561 27.01.2005 JP
Title (EN) COATING COMPOSITION, OPTICAL FILM, ANTIREFLECTION FILM, POLARIZING PLATE, AND DISPLAY EMPLOYING THESE
(FR) COMPOSITION DE REVETEMENT, FILM OPTIQUE, FILM ANTI-REFLECHISSANT, PLAQUE POLARISANTE ET ECRAN D’AFFICHAGE UTILISANT CES DERNIERS
(JA) 塗布組成物、光学フィルム、反射防止フィルム、偏光板およびそれらを用いたディスプレイ装置
Abstract: front page image
(EN)A coating composition which is reduced in drying unevenness and wind unevenness and is not deteriorated in coating unevenness. The composition is useful for an antireflection film having high plane evenness and sufficient antireflection performance and for a polarizing plate and display employing the antireflection film. The coating composition contains a fluoroaliphatic-group-containing copolymer comprising repeating units corresponding to a fluoroaliphatic-group-containing monomer represented by the general formula [1] and repeating units corresponding to a monomer represented by the general formula [2]. In the formula [1], R0 represents hydrogen, halogeno, or methyl; L represents a divalent connecting group; and n is an integer of 1-18. In the formula [2], R11 represents hydrogen, halogeno, or methyl; L11 represents a divalent connecting group; and R13, R14, and R15 each represents optionally substituted C1-20 linear, branched, or cyclic alkyl.
(FR)L’invention concerne une composition de revêtement offrant une irrégularité de séchage et une irrégularité d’enroulement réduites et ne présentant pas d’altération de l’irrégularité de revêtement. La composition est utile pour former un film anti-réfléchissant ayant une planéité élevée et une performance anti-réfléchissante suffisante et pour une plaque polarisante et un écran d’affichage utilisant ledit film. La composition de revêtement contient un copolymère contenant un groupe fluoroaliphatique comprenant des motifs répétitifs correspondant à un monomère contenant un groupe fluoroaliphatique de formule générale [1] et des motifs répétitifs correspondant à un monomère de formule générale [2]. [Formule chimique 1] formule générale [1] formule générale [2] Dans la formule [1], R0 représente un atome d’hydrogène, un groupe halogéno ou méthyle ; L représente un groupe de liaison bivalent ; et n est un nombre entier de 1 à 18. Dans la formule [2], R11 représente un atome d’hydrogène, un groupe halogéno ou méthyle ; L11 représente un groupe de liaison bivalent ; et R13, R14 et R15 représentent chacun un groupe alkyle linéaire, ramifié ou cyclique en C1 à C20 éventuellement substitué.
(JA) 面状均一性が高く、十分な反射防止性能を達成した反射防止膜及び係る反射防止膜を用いた偏光板やディスプレイ装置に有用である、乾燥ムラや風ムラを低減させ、かつ塗布ムラを悪化させない塗布組成物を提供する。そのような組成物として、一般式[1]で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーに相当する繰り返し単位及び一般式[2]で表されるモノマーに相当する繰り返し単位を含むフルオロ脂肪族基含有共重合体を含有する塗布組成物を見出した。  式[1]中、R0は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、Lは2価の連結基を表し、nは1以上18以下の整数を表す。式[2]中、R11は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、L11は2価の連結基を表し、R13、R14、R15は各々置換基を有してよい炭素数1~20の直鎖、分岐又は環状のアルキル基を表す。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)