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1. (WO2006080290) COOLING TREATMENT DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/080290    International Application No.:    PCT/JP2006/301015
Publication Date: 03.08.2006 International Filing Date: 24.01.2006
IPC:
H01L 21/316 (2006.01), H01L 21/67 (2006.01), H01L 21/30 (2006.01)
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1078481 (JP) (For All Designated States Except US).
HASHIMA, Hitoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: HASHIMA, Hitoshi; (JP)
Agent: KANEMOTO, Tetsuo; Hazuki International Shinjuku Akebonobashi Building 1-12, Sumiyoshi-cho, Shinjuku-ku Tokyo 162-0065 (JP)
Priority Data:
2005-016825 25.01.2005 JP
Title (EN) COOLING TREATMENT DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT PAR REFROIDISSEMENT
(JA) 冷却処理装置
Abstract: front page image
(EN)A cooling treatment device, comprising a warpage measuring part measuring the warpage of a wafer. A plurality of suction and discharge ports capable of selectively sucking and discharging a gas are formed in the front surface of a cooling plate. The first suction and discharge port is formed in the surface of the cooling plate at a position corresponding to the center part of the wafer, and the second suction and discharge port is formed at a position corresponding to the outer peripheral part of the wafer. Based on the results of measurements of the warpage of the wafer by the warpage measuring part, a device control part selects the suctions or discharges of the first suction and discharge port and the second suction and discharge port, and maintains flat the water cooled by the cooling plate by a pressing force by blowing or a sucking force.
(FR)L'invention a pour objet un dispositif de traitement par refroidissement comprenant un élément de mesure du gauchissement mesurant le gauchissement d'une tranche. Une pluralité d'orifices d'aspiration et de refoulement pour aspirer et refouler sélectivement un gaz est pratiquée dans la surface antérieure d'une plaque de refroidissement. Le premier orifice d'aspiration et de refoulement est formé dans la surface de la plaque de refroidissement à un emplacement correspondant à la partie centrale de la tranche, tandis que le second orifice d'aspiration et de refoulement est disposé à un emplacement correspondant à la partie périphérique extérieure de la tranche. Selon les résultats des mesures du gauchissement de la tranche par l'élément de mesure du gauchissement, un élément de contrôle sélectionne les aspirations et refoulements des premier et second orifices d'aspiration et de refoulement et maintient plate la tranche refroidie par la force de pression de la plaque de refroidissement en soufflant ou en exerçant une force d'aspiration.
(JA) 本発明においては,冷却処理装置に,ウェハの反りを測定する反り測定部が設けられる。冷却板の表面には,気体の吹き出しと吸引を選択的に行うことができる複数の吹き出し・吸引口が形成される。冷却板の表面には,ウェハの中央部に対応する位置に第1の吹出し・吸引口が形成され,ウェハ外周部に対応する位置に第2の吹出し・吸引口が形成される。装置制御部は,反り測定部によるウェハの反りの測定結果に基づいて,第1の吹き出し・吸引口と第2の吹き出し・吸引口の吹き出し又は吸引を選択し,吹き出しによる押圧力又は吸引力によって,冷却板で冷却されるウェハを平坦に維持する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)