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1. (WO2006080178) MATERIAL FOR METALLIC-PATTERN FORMATION, CROSSLINKING MONOMER, AND METHOD OF FORMING METALLIC PATTERN
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/080178    International Application No.:    PCT/JP2005/024140
Publication Date: 03.08.2006 International Filing Date: 28.12.2005
IPC:
C07C 233/18 (2006.01), C23C 18/06 (2006.01), C08F 20/58 (2006.01), C08F 290/12 (2006.01), G03F 7/027 (2006.01), H01B 13/00 (2006.01), H01L 21/3205 (2006.01), H05K 3/18 (2006.01)
Applicants: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2110012 (JP) (For All Designated States Except US).
TAKANASHI, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MIYAZAWA, Syozo [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KUDO, Tomoya [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: TAKANASHI, Hiroshi; (JP).
MIYAZAWA, Syozo; (JP).
KUDO, Tomoya; (JP)
Agent: SHOBAYASHI, Masayuki; Takase Bldg. 25-8, Higashi-ikebukuro 1-chome Toshima-ku, Tokyo 1700013 (JP)
Priority Data:
2005-020280 27.01.2005 JP
Title (EN) MATERIAL FOR METALLIC-PATTERN FORMATION, CROSSLINKING MONOMER, AND METHOD OF FORMING METALLIC PATTERN
(FR) MATERIAU POUR FORMATION DE MOTIF METALLIQUE, MONOMERE DE RETICULATION ET PROCEDE DE FORMATION DE MOTIF METALLIQUE
(JA) 金属パターン形成材料、架橋性モノマー、及び金属パターンの形成方法
Abstract: front page image
(EN)A method of forming a metallic pattern through the chemisorption of a metal; and a pattern-forming material and a crosslinking monomer which are used in the method. The method comprises: a step in which a pattern-forming material having a composition including a matrix polymer (A) having at least either of a carboxy group and a sulfo group is used to form a pattern on a surface of a substrate by a photolithographic technique including the steps of development and rinsing with a pure-water liquid having a pH less than 7; a step in which this pattern is immersed in an aqueous solution containing a metal compound to chemisorb metal ions or metal compound complex ions onto the pattern to form a metal-containing pattern; and a step in which the metal-containing pattern is burned to form a metallic pattern comprising the elemental metal or comprising it and an oxide of the metal. The crosslinking monomer is one comprising a condensate of a polyhydric alcohol with N-methylol(meth)acrylamide.
(FR)L’invention concerne un procédé de formation d’un motif métallique par chimisorption d’un métal, ainsi qu'un matériau de formation de motif et un monomère de réticulation utilisés dans ledit procédé. Le procédé comprend les étapes consistant à : utiliser un matériau de formation de motif incluant dans sa composition une matrice polymère (A) comprenant au moins un groupe carboxy ou un groupe sulfo pour former un motif à la surface d’un substrat, par une technique de photolithographie incluant les étapes de développement et de rinçage à l'aide d'un liquide aqueux pur de pH inférieur à 7 ; plonger ledit motif dans une solution aqueuse contenant un composé métallique afin de chimisorber des ions métalliques ou des ions de complexe d’un composé métallique sur le motif, afin de former un motif contenant du métal ; brûler le motif contenant du métal afin de former un motif métallique contenant le métal élémentaire ou le métal élémentaire et l’un de ses oxydes. Le monomère de réticulation est de ceux qui comprennent un produit de condensation d’un alcool polyhydrique avec du N-méthylol(méth)acrylamide.
(JA) 金属を化学吸着させて形成する金属パターンの形成方法、及びそれに用いるパターン形成材料、架橋性モノマーを提供する。  基体の表面に、組成中にカルボキシル基とスルホン酸基とのうち少なくとも一方を有する(A)マトリックスポリマーでなるパターン形成材料を用いて、pH=7未満の純水液にて現像工程及びリンス工程を含むフォトリソグラフィー法によりパターンを形成する工程と、このパターンを、金属化合物を含む水溶液に浸漬し、金属イオンもしくは金属化合物錯イオンを、パターンに化学吸着させて、金属含有パターンを形成する工程と、金属含有パターンを焼成して金属単体もしくはそれに金属酸化物を含む金属パターンを形成する工程と、を備えた。また、架橋性モノマーには、多価アルコールと、N-メチロール(メタ)アクリルアミドと、の縮合物を含有するものを用いた。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)