WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2006079741) MICROELECTRONIC MULTIPLE ELECTRON BEAM EMITTING DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/079741    International Application No.:    PCT/FR2006/050047
Publication Date: 03.08.2006 International Filing Date: 24.01.2006
IPC:
H01J 37/073 (2006.01), H01J 1/304 (2006.01)
Applicants: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE [FR/FR]; 25, rue Leblanc, Immeuble "Le Ponant" D", 75015 Paris (FR) (For All Designated States Except US).
NICOLAS, Pierre [FR/FR]; (FR) (For US Only).
DESIERES, Yohan [FR/FR]; (FR) (For US Only)
Inventors: NICOLAS, Pierre; (FR).
DESIERES, Yohan; (FR)
Agent: LEHU, Jean; BREVATOME, 3, rue du Docteur Lancereaux, F-75008 Paris (FR)
Priority Data:
0550235 27.01.2005 FR
Title (EN) MICROELECTRONIC MULTIPLE ELECTRON BEAM EMITTING DEVICE
(FR) DISPOSITIF MICROELECTRONIQUE EMETTEUR D'ELECTRONS A PLUSIEURS FAISCEAUX
Abstract: front page image
(EN)The invention relates to an electronic multiple electron beam emitting device comprising a first structure (115) that has a number of electron beam emitting microsources, a second structure (140) facing the first structure and having means for collecting electrons emitted by the first structure and for carrying out a secondary emission following this collection. The invention is for use, in particular, in the area of direct-writing lithography.
(FR)L'invention concerne un dispositif d'émission électronique à plusieurs faisceaux d'électrons comprenant une première structure (115) comportant une pluralité de micro-sources d'émission de faisceau d'électrons, une deuxième structure (140) en regard de la première structure comportant des moyens pour collecter des électrons émis par la première structure et pour réaliser une émission secondaire suite à cette collection. L'invention s'applique notamment au domaine de la lithographie par écriture directe.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: French (FR)
Filing Language: French (FR)