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1. (WO2006079163) RESILIENTLY BIASED DEVELOPING CARTRIDGE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/079163    International Application No.:    PCT/AU2006/000081
Publication Date: 03.08.2006 International Filing Date: 25.01.2006
IPC:
G03G 21/16 (2006.01), G03G 21/18 (2006.01)
Applicants: GCC IP PTY LTD [AU/AU]; Unit 8, Upper Floor, 273 Foreshore Drive, Geraldton, W.A. 6530 (AU) (For All Designated States Except US).
ZHANG, Pater [CN/CN]; (CN) (For US Only)
Inventors: ZHANG, Pater; (CN)
Priority Data:
2005900310 25.01.2005 AU
Title (EN) RESILIENTLY BIASED DEVELOPING CARTRIDGE
(FR) CARTOUCHE DE DEVELOPPEMENT SOLLICITEE DE MANIERE ELASTIQUE
Abstract: front page image
(EN)A resiliently biased developing cartridge (12) adapted to be received within a drum cartridge (10) having a photosensitive drum (16) and a rear wall (54), the resiliently biased developing cartridge (12) having at least one resilient means (22) and a developer roller (20), such that, when the developing cartridge (12) is received within the drum cartridge (10), the compression of the at least one resilient means (22) against the rear wall (54) of the drum cartridge (10) results in the positioning of the developing cartridge (12) such that a predetermined pressure is applied by the developer roller (20) against the photosensitive drum (16).
(FR)La présente invention concerne une cartouche de développement sollicitée de manière élastique (12) adaptée pour être reçue au sein d’une cartouche à tambour (10) ayant un tambour photosensible (16) et une paroi arrière (54), la cartouche de développement sollicitée de manière élastique (12) ayant au moins un moyen élastique (22) et un cylindre de révélateur (20) de telle sorte que, quand la cartouche de développement (12) est reçue au sein de la cartouche à tambour (10), la compression du ou des éléments élastiques (22) contre la paroi arrière (54) de la cartouche à tambour (10) entraîne le positionnement de la cartouche de développement (12) de telle sorte qu’une pression prédéterminée soit appliquée par le cylindre de révélateur (20) contre le tambour photosensible (16).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)