(EN) A production method of a substrate for a liquid crystal display in which the exposure pattern of a color filter or a black matrix is formed precisely at a predetermined position of a TFT substrate. The production method of a substrate for a liquid crystal display comprises a step for coating a TFT substrate (6) with a photosensitive material for a color filter or a black matrix, a step for imaging a pixel region by an imaging means (2) while carrying the TFT substrate (6) coated with the photosensitive material at a predetermined speed by a carrying means (3), a step for detecting a reference position preset in the pixel region imaged by the imaging means (2) at the image processing section (13) of a control means (4), and a step for controlling irradiation timing of the light source (7) in an exposure optical system (1) by a lamp controller (16) with reference to the detected reference position, and forming the exposure pattern of a color filter or a black matrix at a predetermined position of the TFT substrate (6).
(FR) L’invention concerne un procédé de fabrication de substrat pour affichage à cristaux liquides dans lequel le motif d’exposition d’un filtre de couleur ou d’une matrice noire est formé précisément à une position prédéterminée d’un substrat TFT. Le procédé de fabrication de substrat pour affichage à cristaux liquides comprend une phase d’enduction d’un substrat TFT (6) avec un matériau photosensible pour un filtre de couleur ou une matrice noire, une phase d’imagerie d’une région de pixels grâce à un moyen d’imagerie (2) tout en transportant le substrat TFT (6) enduit du matériau photosensible à une vitesse prédéterminée grâce à un moyen de transport (3), une phase de détection d’une position de référence prédéfinie dans la région de pixels imagée par le moyen d’imagerie (2) au niveau de la section de traitement d’image (13) d’un moyen de commande (4), et une phase de contrôle du minutage d’irradiation de la source lumineuse (7) dans un système optique d’exposition (1) grâce à un contrôleur de lampe (16) en référence à la position de référence détectée, et de formation du motif d’exposition d’un filtre de couleur ou d’une matrice noire à une position prédéterminée du substrat TFT (6).
(JA) 本発明は、TFT基板の所定位置にカラーフィルタ又はブラックマトリクスの露光パターンを精度良く形成しようとする液晶表示装置用基板の製造方法を提供するものである。
そのために、TFT基板6上にカラーフィルタ又はブラックマトリクスの感光材を塗布するステップと、搬送手段3により前記感光材が塗布されたTFT基板6を所定の速度で搬送しながら撮像手段2で画素領域を撮像するステップと、制御手段4の画像処理部13で前記撮像手段2により撮像された画素領域に予め設定された基準位置を検出するステップと、該検出された基準位置を基準にして露光光学系1の光源7の照射タイミングをランプコントローラ16で制御し、TFT基板6の所定位置にカラーフィルタ又はブラックマトリクスの露光パターンを形成するステップとを含むものである。