(EN) There is provided an automatic optical inspection tool of an apparatus for residue detection on polished wafers, including an inspection tool, an illumination source, capable of instantaneous entire wafer surface illumination, colour digital camera, encompassing the entire wafers surface without eclipse, in a duple of consecutive, properly delayed imaging shots and provided appropriate image resolution for tiny residue detection, computation means, implementing image processing and manipulation algorithms to enable reside detection and characterization, logic and command operations execution and camera control, the computation means accumulating an on-line created wafer images and wafer residue defects data base, the computation means providing for inspection tool worthiness monitoring, wafer handling and transportation means. A method of automatic optical self-contained for pattern wafers' polishing residue detection is also provided.
(FR) L'invention concerne un outil d'inspection optique automatique d'un appareil de détection de résidus sur des plaquettes polies, comprenant un outil d'inspection, une source d'éclairage, pouvant éclairer instantanément la surface de plaquettes entière, une caméra numérique couleur, couvrant la surface de plaquettes entière sans éclipse, en deux prises de vue retardées de manière appropriée, consécutives, et assurant une résolution d'image appropriée pour la détection de résidus minuscules, un moyen de calcul, mettant en oeuvre des algorithmes de traitement et de manipulation d'images destinés à permettre la détection et la caractérisation de résidus, l'exécution d'opérations logiques et de commande et la commande de la caméra, le moyen de calcul accumulant une base de données d'images de plaquette et de défauts de type résidus de plaquette créée en ligne, le moyen de calcul permettant la surveillance de la capacité de l'outil d'inspection, un moyen de transport et de manipulation de plaquette. L'invention concerne également un procédé d'inspection autonome optique, automatique, pour la détection de résidus de polissage de plaquettes à motifs.