(EN) A quartz glass that as a jig material for plasma reaction employed in the production of semiconductors, excels in plasma corrosion resistance, especially corrosion resistance to F based plasma gas, and that can be used without causing any abnormality of silicon wafer; a relevant quartz glass jig; and a process for producing them. There is provided a quartz glass comprising two or more types of metal elements in a total amount of 0.1 to 20 wt.%, wherein the metal elements are composed of a first metal element consisting of at least one member selected from among those of Group 3B of the periodic table and a second metal element consisting of at least one member selected from the group consisting of Mg, Ca, Sr, Ba, Sc, Y, Ti, Zr, Hf, lanthanoids and actinoids, with the proviso that the maximum concentration of each of second metal elements is ≤ 2.0 wt.%.
(FR) L’invention concerne un verre de quartz qui en tant que matériau de gabarit pour réaction au plasma employé dans la fabrication de semi-conducteurs, est excellent en matière de résistance à la corrosion au plasma, en particulier la résistance à la corrosion au gaz de plasma à base F, et que l’on peut utiliser sans provoquer d’anomalie de plaquette de silicium ; un gabarit approprié de verre de quartz ; et un procédé de fabrication de ceux-ci. L’invention concerne un verre de quartz comprenant deux types d’éléments de métal ou plus dans une quantité totale de 0,1 à 20 % en poids, où les éléments de métal se composent d’un premier élément de métal consistant en au moins un élément sélectionné parmi ceux du groupe 3B du tableau périodique et un second élément de métal consistant en au moins un élément sélectionné parmi le groupe englobant Mg, Ca, Sr, Ba, Sc, Y, Ti, Zr, Hf, les lanthanoïdes et les actinoïdes, sous réserve que la concentration maximale de chacun des seconds éléments de métal soit ≤ 2,0 % en poids.
(JA) 半導体製造に用いられるプラズマ反応用治具材料として、プラズマ耐食性、特にF系プラズマガスに対する耐食性に優れ、シリコンウエーファにも異常を与えないで使用可能な石英ガラス及び石英ガラス治具並びにそれらの製造方法を提供する。2種類以上の金属元素を併せて0.1~20wt%含有する石英ガラスであって、該金属元素が周期律表第3B族から選ばれた少なくとも1種類である第1の金属元素と、Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、Y、Ti、Zr、Hf、ランタノイド及びアクチノイドからなる群から選ばれた少なくとも1種類である第2の金属元素からなり、第2の金属元素の個々の最大濃度が、2.0wt%以下であるようにした。