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1. (WO2006020424) MULTI-GAS DISTRIBUTION INJECTOR FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION REACTORS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/020424    International Application No.:    PCT/US2005/026891
Publication Date: 23.02.2006 International Filing Date: 29.07.2005
IPC:
C23C 16/00 (2006.01), C23F 1/00 (2006.01)
Applicants: VEECO INSTRUMENTS INC. [US/US]; 100 Sunnyside Boulevard, Suite B, Woodbury, NY 11797 (US) (For All Designated States Except US).
ARMOUR, Eric, A. [US/US]; (US) (For US Only).
GURARY, Alex [US/US]; (US) (For US Only).
KADINSKI, Lev [DE/US]; (US) (For US Only).
DOPPELHAMMER, Robert [US/US]; (US) (For US Only).
TOMPA, Gary, S. [US/US]; (US) (For US Only).
KATS, Mikhail [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: ARMOUR, Eric, A.; (US).
GURARY, Alex; (US).
KADINSKI, Lev; (US).
DOPPELHAMMER, Robert; (US).
TOMPA, Gary, S.; (US).
KATS, Mikhail; (US)
Agent: HUDSON, Douglas, T.; Lerner, David, Littenberg, Krumholz & Mentlik, LLP, 600 South Avenue West, Westfield, NJ 07090 (US)
Priority Data:
60/598,172 02.08.2004 US
Title (EN) MULTI-GAS DISTRIBUTION INJECTOR FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION REACTORS
(FR) MULTI-INJECTEUR DISTRIBUTEUR DE GAZ POUR REACTEURS DE DEPOT EN PHASE VAPEUR
Abstract: front page image
(EN)A gas distribution injector [150] for chemical vapor deposition reactors [100] has precursor gas inlets [160, 165] disposed at spaced-apart locations on an inner surface [155] facing downstream toward a substrate [135], and has carrier openings [167] disposed between the precursor gas inlets [160, 165]. One or more precursor gases [180, 185] are introduced through the precursor gas inlets [160, 165], and a carrier gas [187] substantially nonreactive with the precursor gases is introduced through the carrier gas openings [167]. The carrier gas minimizes deposit formation on the injector [150]. The carrier gas openings may be provided by a porous plate [230] defining the surface or via carrier inlets [167] interspersed between precursor inlets. The gas inlets may removable [1780] or coaxial [1360].
(FR)L'invention concerne un multi-injecteur [150] distributeur de gaz pour réacteurs [100] de dépôt en phase vapeur, comprenant des entrées [160, 165] de gaz précurseur disposées dans des points espacés sur une surface [155] interne orientée vers l'aval, face à un substrat [135], et des ouvertures [167] pour gaz porteur disposées entre ces entrées [160, 165]. Un ou plusieurs gaz [180, 185] précurseurs sont introduits à travers les entrées [160, 165] de gaz précurseur, et un gaz porteur [187] sensiblement non réactif avec les gaz précurseurs est introduit à travers les ouvertures [167] de gaz porteur. Le gaz porteur réduit la formation de dépôts sur l'injecteur [150]. Les ouvertures de gaz porteur peuvent être formées dans une plaque poreuse [230] définissant la surface, ou par des entrées [167] de gaz porteur intercalées entre les entrées de précurseurs. Les entrées de gaz peuvent être amovibles [1780] ou coaxiales [1360].
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)