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1. (WO2006017791) AQUEOUS DEVELOPABLE PHOTO-IMAGEABLE COMPOSITION PRECURSORS FOR USE IN PHOTO-PATTERNING METHODS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/017791    International Application No.:    PCT/US2005/028005
Publication Date: 16.02.2006 International Filing Date: 05.08.2005
Chapter 2 Demand Filed:    06.06.2006    
IPC:
G03F 7/00 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/033 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01)
Applicants: E.I. DUPONT DE NEMOURS AND COMPANY [US/US]; 1007 Market Street, Wilmington, Delaware 19898 (US) (For All Designated States Except US).
YANG, Haixin [CA/US]; (US) (For US Only).
MCKEEVER, Mark, Robert [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: YANG, Haixin; (US).
MCKEEVER, Mark, Robert; (US)
Agent: SIEGELL, Barbara, C.; E. I. Du Pont De Nemours and Company, Legal Patent Records Center, 4417 Lancaster Pike, Wilmington, Delaware 19805 (US)
Priority Data:
10/913,874 06.08.2004 US
Title (EN) AQUEOUS DEVELOPABLE PHOTO-IMAGEABLE COMPOSITION PRECURSORS FOR USE IN PHOTO-PATTERNING METHODS
(FR) PRECURSEURS DE COMPOSITION AQUEUSE TIRABLE SUR FILM ET DEVELOPPABLE DESTINES A ETRE UTILISES DANS DES PROCEDES DE PHOTOMODELISATION
Abstract: front page image
(EN)The invention is directed to a photo-imageable composition precursor, the precursor composition comprising: (I) finely divided particles of inorganic material comprising: Functional phase particles selected from electrically conductive, resistive, and dielectric particles; inorganic binder having a glass transition temperature in the range of from 325 to 600° C; dispersed in: (II) an organic medium comprising; (e) aqueous developable, nonphoto-sensitive polymer which is a copolymer, interpolymer or mixture thereof, wherein each copolymer or interpolymer comprises (1) a nonacidic comonomer comprising a C1-10 alkyl acrylate, C1-10 alkyl methacrylate, styrenes, substituted styrenes or combinations thereof and (2) an acidic comonomer comprising ethylenically unsaturated carboxylic acid containing moiety; and (d) a bi-functional UV-curable monomer having a first and second functional unit, wherein the first functional unit is a vinyl group and the second functional unit is capable of forming a chemical bond by reaction with the carboxylic acid moiety.
(FR)La présente invention concerne un précurseur de composition tirable sur film, la composition de précurseur comprenant: (1) des particules finement divisées de matière inorganique formées de particules à phase fonctionnelle sélectionnées parmi les particules conductrices, résistives et diélectriques; un liant inorganique ayant une température de transition vitreuse située dans la plage comprise entre 325 et 600 °C; qui sont dispersés dans (II) un milieu organique comprenant: (e) un polymère aqueux développable non photosensible qui est un copolymère, un interpolymère ou un mélange de ces derniers, chaque copolymère ou interpolymère comprenant (1) un comonomère non acide comprenant un acrylate d'alkyle C1-10, un méthacrylate d'alkyle C1-10, des styrènes, des styrènes substitués ou des combinaisons de ces derniers et (2) un comonomère acide comprenant une fraction contenant un acide carboxylique non saturé par l'éthylène; et (d) un monomère bifonctionnel durcissable aux UV comportant des première et deuxième unités fonctionnelles, ladite première unité fonctionnelle étant un groupe vinyle et la deuxième unité fonctionnelle étant capable de former une liaison chimique par réaction avec la fraction acide carboxylique.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)