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1. (WO2006016006) AN EMBOSSING DEVICE AND A METHOD FOR ADJUSTING THE EMBOSSING DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/016006    International Application No.:    PCT/FI2005/050288
Publication Date: 16.02.2006 International Filing Date: 05.08.2005
Chapter 2 Demand Filed:    10.03.2006    
IPC:
B29C 59/02 (2006.01), B32B 38/06 (2006.01)
Applicants: AVANTONE OY [FI/FI]; Hämeenkatu 13 B, FI-33100 TAMPERE (FI) (For All Designated States Except US).
KOIVUKUNNAS, Pekka [FI/FI]; (FI) (For US Only).
KORHONEN, Raimo [FI/FI]; (FI) (For US Only).
MÄNTYLÄ, Markku [FI/FI]; (FI) (For US Only).
KEMPPAINEN, Antti [FI/FI]; (FI) (For US Only).
SUMEN, Juha [FI/FI]; (FI) (For US Only)
Inventors: KOIVUKUNNAS, Pekka; (FI).
KORHONEN, Raimo; (FI).
MÄNTYLÄ, Markku; (FI).
KEMPPAINEN, Antti; (FI).
SUMEN, Juha; (FI)
Agent: TAMPEREEN PATENTTITOIMISTO OY; Hermiankatu 12 B, FI-33720 TAMPERE (FI)
Priority Data:
20045295 13.08.2004 FI
Title (EN) AN EMBOSSING DEVICE AND A METHOD FOR ADJUSTING THE EMBOSSING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE GAUFRAGE ET SON PROCÉDÉ DE RÉGLAGE
Abstract: front page image
(EN)A micro-optical grid structure is produced on the surface layer (40) of a substrate (30) by an embossing device (1000) and method according to the invention. The embossing device (1000) comprises an embossing member (10) and a backing member (20), temperature adjustment means (100, 120) for adjusting the embossing temperature and pressure adjustment means (140) for adjusting the pressure exerted by the embossing member (10) and the backing member (20) to the surface layer (40) of the substrate (30). An optical measuring device (200) is arranged to produce a diffraction signal (211) dependent on the intensity of light diffracted from the surface (40) of the substrate. The embossing pressure and/or temperature is/are adjusted on the basis of said diffraction signal (221) to produce an optimal and even pattern depth (r) of the grid structure. By means of the adjustment based on the diffraction signal (221) of the measuring device (200), it is possible to avoid the sticking of the surface (40) of the substrate to the embossing member (10) due to a too high embossing temperature. When the pattern depth (r) is optimal, the collapsing of the substrate (30) caused by the too high embossing pressure is also avoided.
(FR)La présente invention concerne une structure de grille micro-optique produite sur une couche de surface (40) d’un substrat (30) en utilisant un dispositif de gaufrage (1000). Elle concerne également le procédé de réglage selon ladite invention. Le dispositif de gaufrage (1000) comprend un élément de gaufrage (10) et un élément de blocage (20), des moyens de réglage de température (100, 120) pour le réglage des moyens de réglage de température et de pression (140) pour ajuster la pression exercée par l’élément de gaufrage (10) et l’élément de blocage (20) sur la couche de surface (40) du substrat (30). Un dispositif de mesure optique (200) est prévu pour produire un signal à diffraction (211) dépendant de l’intensité de la lumière diffractée à partir de la surface (40) du substrat La pression et/ou température de gaufrage est/sont réglée(s) en fonction dudit signal à diffraction (221) pour produire une profondeur optimale voire de profil (r) de la structure de grille. Grâce à ce réglage en fonction du signal à diffraction (221) du dispositif de mesure (200), il est possible d’éviter le collage de la surface (40) du substrat sur l’élément de gaufrage (10) en raison d’une température de gaufrage très élevée. Lorsque la profondeur de profil (r) est optimale, l’effondrement du substrat (30) causé par une trop forte température de gaufrage est également évité.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: Finnish (FI)