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1. (WO2006015990) METHOD FOR PRODUCING A PHOTONIC CRYSTAL COMPRISED OF A MATERIAL WITH A HIGH REFRACTIVE INDEX
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/015990    International Application No.:    PCT/EP2005/054232
Publication Date: 16.02.2006 International Filing Date: 05.08.2005
IPC:
G02B 6/122 (2006.01), C30B 29/60 (2006.01)
Applicants: FORSCHUNGSZENTRUM KARLSRUHE GMBH [DE/DE]; Weberstr. 5, 76133 Karlsruhe (DE) (For All Designated States Except US).
UNIVERSITY OF TORONTO [CA/CA]; 27 King's College Circle, Toronto, Ontario M5S 1A1 (CA) (For All Designated States Except US).
VON FREYMANN, Georg Ludwig Eberhard [DE/DE]; (DE) (For US Only).
OZIN, Geoffrey A. [CA/CA]; (CA) (For US Only).
DEUBEL, Markus [DE/DE]; (DE) (For US Only).
WEGENER, Martin [DE/DE]; (DE) (For US Only).
TÉTREAULT, Nicolas [CA/CA]; (CA) (For US Only)
Inventors: VON FREYMANN, Georg Ludwig Eberhard; (DE).
OZIN, Geoffrey A.; (CA).
DEUBEL, Markus; (DE).
WEGENER, Martin; (DE).
TÉTREAULT, Nicolas; (CA)
Agent: FITZNER, Uwe; Lintorfer Str. 10, 40878 Ratingen (DE)
Priority Data:
102004037950.5 05.08.2004 DE
Title (DE) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES PHOTONISCHEN KRISTALLS, DER AUS EINEM MATERIAL MIT HOHEM BRECHUNGSINDEX BESTEHT
(EN) METHOD FOR PRODUCING A PHOTONIC CRYSTAL COMPRISED OF A MATERIAL WITH A HIGH REFRACTIVE INDEX
(FR) PROCEDE POUR PRODUIRE UN CRISTAL PHOTONIQUE CONSTITUE D'UNE MATIERE QUI PRESENTE UN INDICE DE REFRACTION ELEVE
Abstract: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines dreidimensionalen Photonischen Kristalls, der aus einem Material mit hohem Brechungsindex besteht. Hierzu wird zunächst ein Photonischer Kristall, der aus einem Polymer besteht, bereit¬ gestellt, durch dessen Oberfläche leere Zwischengitterplätze gegeben sind. Durch Einbringen eines Füllstoffs in die Zwischengitterplätze bildet sich dort aus dem Füllstoff ein Netzwerk. Nach dem Entfernen des Polymers entstehen in dem aus dem Füllstoff gebildeten Netzwerk Hohlräume, in die das Material mit hohem Brechungsindex eingebracht wird, so dass sich darin eine Struktur aus dem Material mit hohem Brechungsindex bildet. Nach dem Entfernen des Füllstoffs bleibt die Struktur aus dem Material mit hohem Brechungsindex zurück, die als Photonischer Kristall, der aus einem Material mit hohem Brechungsindex besteht, entnommen werden kann. Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellte Photonische Kristalle besitzen vollständige Bandlücken im Bereich der Telekommunikationswellenlängen.
(EN)The invention relates to a method for producing a three-dimensional photonic crystal comprised of a material with a high refractive index. To this end, a photonic crystal is firstly provided, which is comprised of a polymer and empty interstitial lattice sites are provided through the surface thereof. A network made of filling material is formed by introducing this filling material into the interstitial lattice sites. After removing the polymer, cavities result in the network formed from this filling material. The material with a high refractive index is introduced into these cavities whereby forming a structure therein that is made of the material with the high refractive index. After removing the filling material, the structure made of the material with the high refractive index remains and can be removed in the form of a photonic crystal comprised of a material with a high refractive index. The photonic crystals produced according to the inventive method have complete band gaps in the area of telecommunications wavelengths.
(FR)La présente invention concerne un procédé pour produire un cristal photonique tridimensionnel constitué d'une matière qui présente un indice de réfraction élevé. Ce procédé consiste à préparer d'abord un cristal photonique constitué d'un polymère. Des sites interstitiels vides sont ménagés à travers la surface de ce cristal. Un réseau se forme lorsqu'une matière de charge est introduite dans les sites interstitiels. Des cavités apparaissent dans le réseau formé par la matière de charge lorsque le polymère est retiré. La matière qui présente un indice de réfraction élevé est introduite dans lesdites cavités, de manière à former une structure constituée de la matière qui présente un indice de réfraction élevé. Lorsque la matière de charge est retirée, il reste la structure constituée de la matière qui présente un indice de réfraction élevé. Cette dernière peut être retirée en tant que cristal photonique constitué d'une matière qui présente un indice de réfraction élevé. Les cristaux photoniques produits selon ce procédé présentent des bandes interdites complètes dans le domaine des longueurs d'onde de télécommunication.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)