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1. (WO2006014263) METHOD AND APPARATUS FOR HIGH-SPEED THICKNESS MAPPING OF PATTERNED THIN FILMS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/014263    International Application No.:    PCT/US2005/022911
Publication Date: 09.02.2006 International Filing Date: 28.06.2005
IPC:
G01B 11/06 (2006.01), G01J 3/18 (2006.01)
Applicants: FILMETRICS, INC. [US/US]; 9335 Chesapeake Drive, San Diego, California 92123 (US) (For All Designated States Except US).
CHALMERS, Scott A. [US/US]; (US) (For US Only).
GEELS, Randall S. [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: CHALMERS, Scott A.; (US).
GEELS, Randall S.; (US)
Agent: COURTNEY, Barbara, B.; Courtney Staniford & Gregory LLP, P.O. Box 9686, San Jose, CA 95157-0686 (US)
Priority Data:
60/584,982 02.07.2004 US
Title (EN) METHOD AND APPARATUS FOR HIGH-SPEED THICKNESS MAPPING OF PATTERNED THIN FILMS
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF DE CARTOGRAPHIE D'EPAISSEURS A GRANDE VITESSE POUR FILS MINCES A MOTIFS
Abstract: front page image
(EN)An apparatus or method captures reflectance spectrum for each of a plurality of spatial locations on the surface of a patterned wafer. A spectrometer system having a wavelength-dispersive element receives light reflected from the locations and separates the light into its constituent wavelength components. A one-dimensional imager scans the reflected light during translation of the wafer with respect to the spectrometer to obtain a set of successive, spatially contiguous, one-spatial dimension spectral images. A processor aggregates the images to form a two-spatial dimension spectral image. One or more properties of the wafer, such as film thickness, are determined from the spectral image. The apparatus or method may provide for relatively translating the wafer at a desired angle with respect to the line being imaged by the spectrometer to enhance measurement spot density, and may provide for automatic focusing of the wafer image by displacement sensor feedback control. The spectrometer system may include an Offner optical system configured to twice pass light reflected from the wafer and received by the imager.
(FR)Dispositif et procédé permettant de capturer le spectre de réflectance pour chacun d'une pluralité d'emplacements spatiaux sur la surface d'une tranche à motifs. Un système spectrométrique doté d'un élément dispersif en longueur d'onde reçoit la lumière réfléchie à partir de ces emplacements et la sépare en ses éléments de longueur d'onde constitutifs. Un dispositif imageur unidimensionnel balaie la lumière réfléchie pendant la translation de la tranche par rapport au spectromètre de manière à donner un ensemble d'images spectrales successives spatialement contiguës, à dimension spatiale unique. Un processeur agrège les images pour former une image spectrale à deux dimensions spatiales. Une ou plusieurs propriétés de la tranche, telle que l'épaisseur du film, sont déterminées à partir de l'image spectrale. Le dispositif ou le procédé de l'invention autorise une translation relative de la tranche selon un angle recherché par rapport à la ligne représentée par le spectromètre de manière à accentuer la densité de taches et une mise au point automatique de l'image de la tranche par la commande à rétroaction du capteur de déplacement. Le système spectrométrique peut être assorti d'un système optique Offner conçu pour laisser passer deux fois la lumière réfléchie à partir de la tranche et reçue par le dispositif imageur.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)