WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2006014215) DC POWER SUPPLY UTILIZING REAL TIME ESTIMATION OF DYNAMIC IMPEDANCE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/014215    International Application No.:    PCT/US2005/020393
Publication Date: 09.02.2006 International Filing Date: 09.06.2005
IPC:
H01J 7/24 (2006.01)
Applicants: ADVANCED ENERGY INDUSTRIES, INC. [US/US]; 1625 Sharp Point Drive, Fort Collins, CO 80525 (US) (For All Designated States Except US)
Inventors: ILIC, Milan; (US).
SIDDABATTULA, Kalyan, N. C.; (IN).
ROOP, Gerald, C., Jr.; (US).
CHRISTIE, David, J.; (US)
Agent: PIRNOT, John, D.; Advanced Energy Industries, Inc., 1625 Sharp Point Drive, Fort Collins, CO 80525 (US)
Priority Data:
10/884,027 02.07.2004 US
Title (EN) DC POWER SUPPLY UTILIZING REAL TIME ESTIMATION OF DYNAMIC IMPEDANCE
(FR) ALIMENTATION EN COURANT CONTINU UTILISANT UNE ESTIMATION EN TEMPS REEL DE L'IMPEDANCE DYNAMIQUE
Abstract: front page image
(EN)There is provided by this invention an apparatus and method for controlling a dc magnetron plasma processing system that automatically adjusts the control signal to the power supply based upon the dynamic impedance of the load to control the output power to the plasma. The output voltage and the output current of the power supply that supplies power to the plasma is sampled over at a sampling frequency at least four to five times higher than the switching frequency and the dynamic impedance of the plasma is calculated based upon the sampled voltage and current from the algorithm Rplasma = &Dgr;Vn wherein &Dgr;Vn, and &Dgr;In is the maximum &Dgr;In difference among samples on one switching cycle. If the dynamic impedance seen is negative in nature then the control signal is compensated accordingly.
(FR)La présente invention porte sur un appareil et un procédé permettant de commander un système de traitement par plasma magnétron cc qui règle automatiquement le signal de commande sur l'alimentation électrique sur la base de l'impédance dynamique de la charge pour commander la puissance de sortie envoyée au plasma. La tension de sortie et le courant de sortie de l'alimentation électrique qui alimente le plasma en énergie sont échantillonnés à une fréquence d'échantillonnage au moins quatre à cinq fois supérieure à la fréquence de commutation, tandis que l'impédance dynamique du plasma est calculée sur la base de la tension et du courant échantillonnés selon l'algorithme suivant (I) selon lequel $g(D)Vn et $g(D)In désignent la différence maximale entre les échantillons sur un cycle de commutation. Si l'impédance dynamique observée est négative de nature, le signal de commande est alors compensé en fonction.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)