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1. (WO2006013996) METHOD OF MANUFACTURING POLISHING CARRIER AND SILICON SUBSTRATE FOR MAGNETIC RECORDING MEDIUM, AND SILICON SUBSTRATE FOR MAGNETIC RECORDING MEDIUM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/013996    International Application No.:    PCT/JP2005/014477
Publication Date: 09.02.2006 International Filing Date: 01.08.2005
IPC:
B24B 37/08 (2012.01), B24B 37/28 (2012.01)
Applicants: SHOWA DENKO K.K. [JP/JP]; 13-9, Shibadaimon 1-chome, Minato-ku, Tokyo 105-8518 (JP) (For All Designated States Except US).
AIDA Katsuaki [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: AIDA Katsuaki; (JP)
Agent: SHIGA, Masatake; 2-3-1, Yaesu, Chuo-ku, Tokyo 104-8453 (JP)
Priority Data:
2004-225660 02.08.2004 JP
60/600,778 12.08.2004 US
Title (EN) METHOD OF MANUFACTURING POLISHING CARRIER AND SILICON SUBSTRATE FOR MAGNETIC RECORDING MEDIUM, AND SILICON SUBSTRATE FOR MAGNETIC RECORDING MEDIUM
(FR) MÉTHODE DE FABRICATION D’UN SUPPORT DE POLISSAGE ET D’UN SUBSTRAT EN SILICIUM POUR SUPPORT D’ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUE ET SUBSTRAT DE SILICIUM POUR SUPPORT D’ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUE
Abstract: front page image
(EN)An object is to provide a polishing carrier that can prevent scratches from occurring on the edge face of a substrate, and prevent debris from being produced from the edge face, while a single crystal silicon substrate, which is fragile, and has a high cleavage strength, is polished, and to make it difficult for debris to be produced due to rubbing against a cassette when it is stored in a cassette in subsequent processing, and prevent the substrate from being broken. Therefore a part of the internal circumference of a substrate holding hole in a polishing carrier, that makes contact with the silicon substrate is formed from a cushion whose hardness is less than that of the silicon substrate. For the cushion, any type selected from for example suede, polyamide resin, polypropylene resin, or epoxy resin may be used. Especially, the use of epoxy resin is desirable.
(FR)L’objet de l’invention est de fournir un support de polissage qui permet d’empêcher les rayures d’apparaître sur la surface d’un substrat et d’empêcher la formation de débris à partir de la surface, pendant qu’un substrat de silicium monocristallin, qui est fragile et qui possède une grande force de clivage, est poli et de rendre difficile la formation de débris dus aux frottements contre une cassette lorsqu’il est rangé dans une cassette lors d’un processus ultérieur et d’empêcher le substrat de se briser. En conséquence, une partie du périmètre intérieur d’un substrat portant un trou dans support de polissage, qui fait contact avec le substrat de silicium est formée à partir d’un coussinet dont la dureté est inférieure à celle du substrat de silicium. Pour le coussinet, on peut en utiliser de toute sorte comme exemple de la suède, de la résine polyamide, de la résine polypropylénique ou de la résine époxy. Spécialement, l’utilisation de résine époxyde est souhaitable.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)