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Pub. No.: WO/2006/013704 International Application No.: PCT/JP2005/012824
Publication Date: 09.02.2006 International Filing Date: 12.07.2005
G03F 7/039 (2006.01) ,G03F 7/00 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01)
Applicants: SATO, Tsutomu[JP/JP]; JP (UsOnly)
KA, Seihei[CN/JP]; JP (UsOnly)
THINK LABORATORY CO., LTD.[JP/JP]; 1201-11, Takada, Kashiwa-shi, Chiba 2778525, JP (AllExceptUS)
Inventors: SATO, Tsutomu; JP
KA, Seihei; JP
Agent: ISHIHARA, Shoji; c/o Ishihara International Patent Firm No. 302, Wakai Bldg. 7-8, Higashi-Ikebukuro 3-chome Toshima-ku, Tokyo 1700013, JP
Priority Data:
(JA) ポジ型感光性組成物
Abstract: front page image
(EN) This invention provides a positive-working photosensitive composition that does not require burning, can provide necessary and sufficient adhesion by coating at a humidity of 25 to 60%, can realize development at a low alkali strength, has excellent temporal stability and reproducibility, can realize development while maintaining high sensitivity without any residue, can realize a sharp contour, and can realize a resist film which is very hard and is improved in scratch resistance during handling before the development. The positive-working photosensitive composition comprises (A) a polymeric material containing at least one carboxyl group and/or acid anhydride group in its molecule, (B) an amine compound, and (C) a photothermal conversion material which can absorb infrared light from an image exposure light source for conversion to heat as indispensable components.
(FR) La présente invention porte sur une composition photosensible pour plaque positive n’exigeant aucun brûlage, susceptible d’assurer l’adhérence nécessaire et suffisante par enduction à une humidité de l’ordre de 25 à 60%, pour un développement à faible résistance alcaline, avec une excellente stabilité et une excellente reproductibilité dans le temps, permettant un développement à haute sensibilité sans provoquer de résidu, aux contours nets, utilisable pour la fabrication de film résist très robuste et insensible aux rayures pendant la manipulation avant le développement. La composition photosensible pour plaque positive comprend (A) un matériau polymère contenant au moins un groupe carboxyle et/ou un groupe anhydre d’acide dans sa molécule, (B) un composé aminé et (C) un matériau de conversion photothermique capable d’absorber la lumière infrarouge à partir d’une source lumineuse d’exposition d’image pour conversion en chaleur en tant que composants indispensables.
(JA)  バーニング不要で湿度が25~60%の条件で塗布して必要十分な密着性が得られ、低いアルカリ強度で現像が可能であり、経時安定性及び再現性に優れ、高感度が保たれ残渣が生じない現像ができて、シャープな輪郭で切れ、レジスト膜が非常に硬くて現像前の取り扱いにおける耐傷性が向上するポジ型感光性組成物を提供する。  (A)分子中に少なくとも1つのカルボキシル基及び/又は酸無水物基を有する高分子物質、(B)アミン化合物、及び(C)画像露光光源の赤外線を吸収して熱に変換する光熱変換物質、を必須成分として含有するようにした。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)