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1. (WO2006013050) DUAL NK1/NK3 ANTAGONISTS AGAINST SCHIZOPHRENIA
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2006/013050    International Application No.:    PCT/EP2005/008144
Publication Date: 09.02.2006 International Filing Date: 27.07.2005
Chapter 2 Demand Filed:    13.02.2006    
IPC:
A61K 31/44 (2006.01), A61K 31/4436 (2006.01), A61K 31/4439 (2006.01), A61K 31/444 (2006.01), C07D 213/82 (2006.01), A61P 25/18 (2006.01)
Applicants: F. HOFFMANN-LA ROCHE AG [CH/CH]; Grenzacherstrasse 124, CH-4070 Basel (CH) (For All Designated States Except US).
SCHNIDER, Patrick [CH/CH]; (CH) (For US Only)
Inventors: SCHNIDER, Patrick; (CH)
Agent: POPPE, Regina; Grenzacherstrasse 124, CH-4070 Basel (CH)
Priority Data:
04103794.6 06.08.2004 EP
Title (EN) DUAL NK1/NK3 ANTAGONISTS AGAINST SCHIZOPHRENIA
(FR) ANTAGONISTES DOUBLES NK1/NK3 CONTRE LA SCHIZOPHRÉNIE
Abstract: front page image
(EN)The present invention relates to the use of compounds of the general formula (I) wherein R1 is lower alkyl or halogen; R2 is hydrogen or halogen; R3 -(CHR')nOH, phenyl, optionally substituted by -(CHR')nOH, or is a saturated, partial saturated or aromatic 5-or 6-membered heterocyclic ring with one heteroatom, selected from the group consisting of-N(R4)-, -N=, formula (II), -S- or -S(O)2, and which rings are optionally substituted by - (CHR’)nOH ; R’ is independently from “n” hydrogen or - (CH2)nOH; R4 is hydrogen, -S(O2)-lower alkyl or -C(O)-lower alkyl; X is -O-, -CH2O-, -S- or a bond; n is 1 or 2; or to pharmaceutically active acid-addition salts thereof, for the preparation of medicaments for the treatment of schizophrenia.
(FR)Cette invention a pour objet le recours à des compositions de formule générale (I) où R1 est un alkyle ou un halogène plus faible ; R2 est un hydrogène ou un halogène; R3 -(CHR')nOH, est optionnellement substitué par -(CHR')nOH, est saturé, partiellement saturé ou est un anneau aromatique hétérocyclique à 5 ou 6 membres avec un seul hétéroatome, sélectionnées parmi les compositions N(R4)-, -N=, de formule (II), -S- ou -S(O)2, et dont les anneaux sont optionnellement substitués par - (CHR’)nOH ; où R’ est indépendant de “n” hydrogène ou de - (CH2)nOH; où R4 est un hydrogène, -S(O2)- est un alkyle inférieur ou -C(O)-un alkyle inférieur; X est -O-, -CH2O-, -S- ou un maillon; n est 1 ou 2; ou par des sels d’adjonction d’acide pharmaceutiquement actifs présents dans ces compositions permettant de préparer les médicaments nécessaires au traitement de la schizophrénie.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)