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1. (WO2006011427) FLUORINE-CONTAINING COMPOUND, FLUORINE-CONTAINING POLYMER, RESIST COMPOSITION AND RESIST PROTECTIVE FILM COMPOSITION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2006/011427 International Application No.: PCT/JP2005/013507
Publication Date: 02.02.2006 International Filing Date: 22.07.2005
IPC:
C08F 36/20 (2006.01) ,C07C 33/42 (2006.01) ,C07C 43/17 (2006.01) ,G03F 7/039 (2006.01) ,G03F 7/11 (2006.01)
Applicants: TAKEBE, Yoko[JP/JP]; JP (UsOnly)
EDA, Masataka[JP/JP]; JP (UsOnly)
YOKOKOJI, Osamu[JP/JP]; JP (UsOnly)
SASAKI, Takashi[JP/JP]; JP (UsOnly)
ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED[JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405, JP (AllExceptUS)
Inventors: TAKEBE, Yoko; JP
EDA, Masataka; JP
YOKOKOJI, Osamu; JP
SASAKI, Takashi; JP
Agent: SENMYO, Kenji; Torimoto Kogyo Bldg. 38, Kanda-Higashimatsushitacho Chiyoda-ku, Tokyo 1010042, JP
Priority Data:
2004-22336330.07.2004JP
2004-34059525.11.2004JP
2005-15102824.05.2005JP
Title (EN) FLUORINE-CONTAINING COMPOUND, FLUORINE-CONTAINING POLYMER, RESIST COMPOSITION AND RESIST PROTECTIVE FILM COMPOSITION
(FR) COMPOSÉ CONTENANT DU FLUOR, POLYMÈRE CONTENANT DU FLUOR, COMPOSITION DE RÉSERVE ET COMPOSITION DE FILM PROTECTEUR DE RÉSERVE
(JA) 含フッ素化合物、含フッ素ポリマー、レジスト組成物、およびレジスト保護膜組成物
Abstract:
(EN) Disclosed is a fluorine-containing polymer which has a functional group and is highly transparent to a wide wavelength range. Also disclosed are a resist composition composed of such a fluorine-containing polymer and a resist protective film composition. Specifically disclosed is a fluorine-containing polymer having a monomer unit obtained by ring-forming polymerization of a fluorine-containing diene and represented by the following formula (1): CF2=CFCF2C(CF3)(OR1)-(CH2)nCR2=CHR3. [In the formula (1), R1 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 20 or less carbon atoms or (CH2)aCOOR4 (wherein a is 0 or 1, and R4 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 20 or less carbon atoms), R2 and R3 independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 12 or less carbon atoms, and n represents 0 or 2. When n is 0, at least one of R1, R2 and R3 is other than a hydrogen atom.]
(FR) Polymère contenant du fluor ayant un groupe fonctionnel et étant hautement transparent pour un large éventail de longueurs d'ondes. Cette invention concerne également une composition de réserve composée de ce polymère contenant du fluor, ainsi qu'une composition de film protecteur de réserve. Plus spécifiquement, cette invention concerne un polymère contenant du fluor, ayant une unité monomère obtenue par polymérisation avec cyclisation d'un diène contenant du fluor, et est représentée par la formule suivante (1) : CF2=CFCF2C(CF3)(OR1)-(CH2)nCR2=CHR3. [Dans la formule (1), R1 représente un atome hydrogène, un groupe alkyl ayant au plus 20 atomes de carbone ou (CH2)aCOOR4 (où a est égal à 0 ou à 1, R4 représente un atome hydrogène ou un groupe alkyl ayant au plus 20 atomes de carbone), R2 et R3 représentent indépendamment un atome hydrogène ou un groupe alkyl ayant au plus 12 atomes de carbone, et n est égal à 0 ou à 2. Quand n est égal à 0, au moins un élément parmi R1, R2 et R3 n'est pas un atome hydrogène.]
(JA)  官能基を有し、幅広い波長領域で高い透明性を有する含フッ素ポリマーならびに該含フッ素ポリマーからなるレジスト用組成物およびレジスト保護膜組成物の提供。  下記式(1)で表される含フッ素ジエンを環化重合してなるモノマー単位を有する含フッ素ポリマー。  CF2=CFCF2C(CF3)(OR1)-(CH2nCR2=CHR3 ・・・(1) (ただし、式(1)中、R1は、水素原子、炭素数20以下のアルキル基、または(CH2aCOOR4(aは0または1であり、R4は水素原子または炭素数20以下のアルキル基)を表す。R2およびR3は、それぞれ独立に水素原子または炭素数12以下のアルキル基を表す。nは0または2を表す。但し、n=0の場合、R1、R2およびR3のうち少なくとも1つは水素原子以外である。)
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)