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1. (WO2005124852) TEMPERATURE SENSOR APPARATUS OF WAFER
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/124852    International Application No.:    PCT/KR2005/001895
Publication Date: 29.12.2005 International Filing Date: 18.06.2005
IPC:
H01L 21/66 (2006.01)
Applicants: JOEUN TECHNOLOGY CO., LTD. [KR/KR]; Rm. 802, Hanrim Human Tower, 1-40 Geumjeong-dong, Gunpo-city,, Kyungki-do 435-050 (KR) (For All Designated States Except US).
LEE, Young-Weon [KR/KR]; (KR) (For US Only)
Inventors: LEE, Young-Weon; (KR)
Agent: Y.P. LEE, MOCK & PARTNERS; The Cheonghwa Bldg.,, 1571-18 Seocho-dong, Seocho-gu, Seoul 137-874 (KR)
Priority Data:
10-2004-0045860 19.06.2004 KR
Title (EN) TEMPERATURE SENSOR APPARATUS OF WAFER
(FR) DISPOSITIF DE DETECTION DE TEMPERATURE POUR TRANCHE DE SEMI-CONDUCTEUR
Abstract: front page image
(EN)Provided is an apparatus for more precisely sensing a temperature of a wafer seated on a wafer-heating (cooling) plate. The apparatus includes a sensor which protrudes from an upper surface of the plate to be close to the wafer and measures a temperature of the plate to produce a temperature signal, and a controller which receives the temperature signal from the sensor. Accordingly, the apparatus is able to measure a temperature of an actual wafer in real time while the actual wafer is being processed, so that very precise actual data that helps to determine processing conditions of equipment can be obtained, and an operator of the equipment can accurately estimate a heated or cooled state of the wafer depending on varying externa and internal factors to take necessary measurements.
(FR)Cette invention concerne un dispositif permettant de détecter avec une plus grande précision la température d'une tranche de semi-conducteur disposée sur une plaque de chauffage (refroidissement). Le dispositif comprend un capteur dépassant de la surface supérieure de la plaque, contre la tranche, qui mesure la température de la plaque et émet un signal de température en direction d'une unité de commande. Ce dispositif est ainsi capable de mesurer la température effective d'une tranche de semi-conducteur en temps réel, pendant le traitement de la tranche, ce qui fournit des données très précises contribuant à déterminer les conditions de traitement, et permet à l'opérateur de déterminer avec précision le degré de chauffage ou de refroidissement de la tranche en fonction de facteurs extérieurs et intérieurs variables et de prendre les mesures qui s'imposent.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: Korean (KO)