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1. (WO2005124817) ION BEAM SCANNING SYSTEMS AND METHODS FOR IMPROVED ION IMPLANTATION UNIFORMITY
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/124817    International Application No.:    PCT/US2005/019760
Publication Date: 29.12.2005 International Filing Date: 06.06.2005
IPC:
H01J 37/317 (2006.01)
Applicants: AXCELIS TECHNOLOGIES, INC. [US/US]; 108 Cherry Hill Drive, Beverly, MA 01915 (US) (For All Designated States Except US).
VANDERBERG, Bo [SE/US]; (US) (For US Only).
RAY, Andrew [US/US]; (US) (For US Only).
WENZEL, Kevin [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: VANDERBERG, Bo; (US).
RAY, Andrew; (US).
WENZEL, Kevin; (US)
Priority Data:
10/865,061 10.06.2004 US
Title (EN) ION BEAM SCANNING SYSTEMS AND METHODS FOR IMPROVED ION IMPLANTATION UNIFORMITY
(FR) SYSTEMES DE BALAYAGE DE FAISCEAUX D'IONS ET PROCEDES DESTINES A AMELIORER L'UNIFORMITE D'IMPLANTATION D'IONS
Abstract: front page image
(EN)Ion implantation systems and scanning systems therefor, in which focus adjustment apparatus is provided to dynamically adjust a focal property of an ion beam to compensate for at least one time varying focal property of a scanner. Methods for providing a scanned ion beam to a workpiece, comprising dynamically adjusting a focal property of an ion beam, scanning the ion beam to create a scanned ion beam, and directing the scanned ion beam toward a workpiece.
(FR)L'invention concerne des systèmes d'implantation d'ions et des systèmes de balayage correspondants dans lesquels un appareil d'ajustement de la mise au point fonctionne de manière à ajuster dynamiquement une propriété focale d'un faisceau d'ions pour compenser au moins une propriété focale variant dans le temps d'un scanner. L'invention concerne des procédés pour traiter une pièce à usiner avec un faisceau d'ions balayés, qui consistent à ajuster dynamiquement une propriété focale d'un faisceau d'ions, à balayer le faisceau d'ions pour créer un faisceau d'ions balayé et à diriger le faisceau d'ions balayé vers la pièce à usiner.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)