WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2005124468) A PHOTOLITOGRAPHY APPARATUS AND MASK FOR NANO METER SCALE PATTERNING OF SOME ARBITRARY SHAPES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/124468    International Application No.:    PCT/KR2004/002724
Publication Date: 29.12.2005 International Filing Date: 26.10.2004
Chapter 2 Demand Filed:    13.01.2006    
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), G03H 1/22 (2006.01)
Applicants: HONG, Chinsoo [KR/KR]; (KR).
KIM, Chang Kyo [KR/KR]; (KR)
Inventors: HONG, Chinsoo; (KR).
KIM, Chang Kyo; (KR)
Agent: DARAE PATENT FIRM; 10th Floor, KIPS, 647-9, Yeoksam-dong, Kangnam-ku, Seoul 135-980 (KR)
Priority Data:
10-2004-0044442 16.06.2004 KR
Title (EN) A PHOTOLITOGRAPHY APPARATUS AND MASK FOR NANO METER SCALE PATTERNING OF SOME ARBITRARY SHAPES
(FR) APPAREIL DE PHOTOLITHOGRAPHIE ET MASQUE POUR LA FORMATION DE MOTIFS A L'ECHELLE NANOMETRIQUE DE CERTAINES FORMES ARBITRAIRES
Abstract: front page image
(EN)An exposure apparatus for patterning an arbitrary shape on a nanometer scale and a method for manufacturing a mask in which a Fourier-transformed pattern is formed. The exposure apparatus a light source unit, a mask unit, a lens unit, and a photoresist. The light source unit is provided with a lamp for providing light. The mask unit is equipped with the mask through which light from the light source unit is passed and in which the Fourie-transformed pattern is formed. The lens unit is provided with at least one lens for performing Fourier transform on the light passed through the mask unit. The photoresist unit is equipped with a wafer on which a photoresist is applied.
(FR)L'invention concerne un appareil d'exposition pour la création de motifs d'une forme arbitraire à une échelle nanométrique ainsi qu'un procédé de fabrication d'un masque dans lequel un motif soumis à une transformée de Fourier est formé. L'appareil d'exposition comprend une unité de source de lumière, une unité de masque, une unité de lentille et une résine photosensible. L'unité de source de lumière présente une lampe destinée à produire de la lumière. L'unité de masque est équipée du masque à travers lequel la lumière de l'unité de source de lumière passe et dans lequel le motif soumis à une transformée de Fourier est formé. L'unité de lentille présente au moins une lentille destinée à la mise en oeuvre d'une transformée de Fourier sur la lumière ayant traversé l'unité de masque. L'unité de résine photosensible est équipée d'une plaquette sur laquelle une résine photosensible est appliquée.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: Korean (KO)