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1. (WO2005124467) ELECTRON BEAM DRAWING DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/124467    International Application No.:    PCT/JP2005/011346
Publication Date: 29.12.2005 International Filing Date: 21.06.2005
Chapter 2 Demand Filed:    21.04.2006    
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), G11B 5/84 (2006.01), G11B 7/24 (2006.01), H01J 37/305 (2006.01)
Applicants: PIONEER CORPORATION [JP/JP]; 4-1, Meguro 1-chome, Meguro-ku, Tokyo 1538654 (JP) (For All Designated States Except US).
KITAHARA, Hiroaki [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: KITAHARA, Hiroaki; (JP)
Agent: NAKAMURA, Toshinobu; c/o TOKYO CENTRAL PATENT FIRM, 4th Floor, Oak Bldg. Kyobashi, 16-10, Kyobashi 1-chome, Chuou-ku, Tokyo 104-0031 (JP)
Priority Data:
2004-182290 21.06.2004 JP
Title (EN) ELECTRON BEAM DRAWING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE TRACAGE PAR FAISCEAU D’ELECTRONS
(JA) 電子ビーム描画装置
Abstract: front page image
(EN)An electron beam drawing device capable of easily regulating a beam and a rotation center without increasing the size of the device, the device comprising a unit for emitting an electron beam, a rotary stage for rotatably supporting a turn-table holding an object of drawing, and a sample table being supported by the turn-table within a range including the rotation center of the turn-table and holding a regulating sample. When an electron beam is applied to an object of drawing during the rotation of a turn-table, a rotation-symmetric (such as concentric, radial) pattern can be drawn on the object of drawing. When a beam and a rotation center are regulated by using a regulating sample before actually drawing a pattern on an object of drawing, a regulating sample is held by a sample table and the sample table is supported by the turn-table within a range including the rotation center of the turn-table. Therefore, a beam and a rotation center can be regulated using a regulating sample supported on the turn-table to eliminate the need of a separate regulating sample-mounting stage, whereby the device can be downsized.
(FR)Dispositif de traçage par faisceau d’électrons capable de réguler aisément un faisceau et un centre de rotation sans augmenter la taille du dispositif, le dispositif comprenant une unité pour émettre un faisceau d’électrons, une platine rotative pour soutenir de façon rotative un plateau tournant maintenant un objet à tracer et un plateau à échantillon étant soutenu par le plateau tournant dans une plage incorporant le centre de rotation du plateau tournant et maintenant un échantillon de régulation. Lorsqu’un faisceau d’électrons est appliqué sur un objet à tracer pendant la rotation d’un plateau tournant, un motif à symétrie de rotation (comme un motif concentrique, radial) peut être tracé sur l’objet à tracer. Lorsqu’un faisceau et un centre de rotation sont régulés à l’aide d’un échantillon de régulation, avant le traçage effectif d‘un motif sur un objet à tracer, un échantillon de régulation est maintenu par un plateau à échantillon et le plateau à échantillon est soutenu par le plateau tournant dans une plage incorporant le centre de rotation du plateau tournant. Il est donc possible de réguler un faisceau et un centre de rotation à l’aide d’un échantillon de régulation soutenu par le plateau tournant, ce qui permet de ne pas utiliser une platine porte-échantillon de régulation séparée, et donc de réduire la taille du dispositif.
(JA) 装置の大型化を招くことなく、容易にビーム調整及び回転中心調整を行うことが可能な電子ビーム描画装置を提供する。電子ビーム描画装置は、電子ビームを出射する電子ビーム出射部と、描画対象物を保持するターンテーブルを回転可能に支持する回転ステージと、前記ターンテーブルの回転中心を含む範囲内において前記ターンテーブルにより支持され、調整用試料を保持する試料台と、を備える。ターンテーブルの回転中に電子ビームを描画対象物に照射することにより、描画対象物には同心円状、放射状などの回転対称なパターンを描画することができる。実際に描画対象物に描画を行う前に、調整用試料を用いてビーム調整及び回転中心調整が行われるが、調整用試料は試料台により保持されており、試料台はターンテーブルの回転中心を含む範囲内においてターンテーブルにより支持されている。よって、ターンテーブルに支持された調整用試料を用いてビーム調整及び回転中心調整を行うことができ、調整用試料を載置する別個のステージなどが不要であるので、装置の小型化が可能となる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)