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1. (WO2005123804) LIQUID-CRYSTALLINE RESIN, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, COMPOSITION OF LIQUID-CRYSTALLINE RESIN, AND MOLDED ARTICLE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/123804    International Application No.:    PCT/JP2004/017445
Publication Date: 29.12.2005 International Filing Date: 25.11.2004
IPC:
C08G 63/60 (2006.01), C08G 63/78 (2006.01), C08L 67/00 (2006.01), D01F 6/84 (2006.01)
Applicants: TORAY INDUSTRIES, INC. [JP/JP]; 1-1, Nihonbashi-Muromachi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038666 (JP) (For All Designated States Except US).
TACHIKAWA, Koji [JP/JP]; (JP) (For US Only).
MATSUBARA, Satoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
YAMANAKA, Toru [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: TACHIKAWA, Koji; (JP).
MATSUBARA, Satoshi; (JP).
YAMANAKA, Toru; (JP)
Agent: IWAMI, Tomonori; c/o Intellectual Property Department, TORAY INDUSTRIES, INC., 1-1, Sonoyama 1-chome, Otsu-shi, Shiga 5208558 (JP)
Priority Data:
2004-183740 22.06.2004 JP
2004-244860 25.08.2004 JP
2004-245950 25.08.2004 JP
Title (EN) LIQUID-CRYSTALLINE RESIN, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, COMPOSITION OF LIQUID-CRYSTALLINE RESIN, AND MOLDED ARTICLE
(FR) RÉSINE CRISTALLINE LIQUIDE, PROCÉDÉ SERVANT À PRODUIRE CELLE-CI, COMPOSITION DE RÉSINE CRISTALLINE LIQUIDE ET ARTICLE MOULÉ
(JA) 液晶性樹脂、その製造方法、液晶性樹脂組成物および成形品
Abstract: front page image
(EN)A liquid-crystalline resin comprising structural units derived from at least two aromatic diols, wherein when the resin is held in a helium atmosphere at a temperature higher by 10°C than the melting point (provided that the resin is held at 335°C when the melting point is below 325°C) for 30 minutes, the amounts of the acetic acid gas, phenol gas, and carbon dioxide generated from the liquid-crystalline resin are 100 ppm or smaller, less than 20 ppm, and less than 100 ppm, respectively. The liquid-crystalline resin is reduced in metal corrosion, glass clouding, molding blistering, etc. Also provided is a composition containing the resin.
(FR)Résine cristalline liquide comprenant des unités de structure dérivées d'au moins deux diols aromatiques, dans laquelle lorsque la résine est maintenue dans une atmosphère d'hélium à une température supérieure de 10°C à celle du point de fusion (à condition que la résine soit maintenue à 335°C lorsque le point de fusion est en dessous de 325°C) pendant 30 minutes, les quantités de l'acide acétique gazeux, du phénol gazeux et du dioxyde de carbone générées à partir de la résine cristalline liquide sont inférieure ou égale à 100 ppm, inférieure à 20 ppm et inférieure à 100 ppm, respectivement. La résine cristalline liquide présente une corrosion d'un métal, une formation d'un trouble dans un verre, une formation de cloques sur un article moulé, etc. réduites. Il est également fourni une composition contenant la résine.
(JA) 少なくとも2種類の芳香族ジオール由来の構造単位を含む液晶性樹脂であって、ヘリウムガス雰囲気下で融点+10°C(ただし融点が325°C未満の場合は335°C)で30分間保持した際に上記液晶性樹脂から発生する酢酸ガスが100ppm以下、フェノールガスが20ppm未満かつ炭酸ガスが100ppm未満である液晶性樹脂。本発明により、金属腐食、ガラスのくもり、成形品のふくれなどを低減した液晶性樹脂またはその組成物を提供する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)