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1. (WO2005123795) POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/123795    International Application No.:    PCT/JP2005/010697
Publication Date: 29.12.2005 International Filing Date: 10.06.2005
IPC:
C08F 220/28 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi Kanagawa 2110012 (JP) (For All Designated States Except US).
KINOSHITA, Yohei [JP/JP]; (JP) (For US Only).
IWAI, Takeshi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: KINOSHITA, Yohei; (JP).
IWAI, Takeshi; (JP)
Agent: TANAI, Sumio; 2-3-1, Yaesu, Chuo-ku Tokyo 1048453 (JP)
Priority Data:
2004-181070 18.06.2004 JP
2004-316959 29.10.2004 JP
Title (EN) POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
(FR) COMPOSÉ POLYMÈRE, COMPOSITION RÉSISTANTE POSITIVE ET PROCÉDÉ POUR FORMER UN MODÈLE RÉSISTANT
(JA) 高分子化合物、ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a positive resist composition which is composed of a polymer compound containing one or more units (a1) selected from the group consisting of units represented by the general formula (1) or (1)' below, a unit (a2) derived from an (&agr;-lower alkyl)acrylate having a lactone-containing cyclic group, and a unit (a3) derived from an (&agr;-lower alkyl)acrylate which unit (a3) is other than the unit (a1) and the unit (a2) and contains an alicyclic group-containing acid-uncleavable dissolution inhibiting group but does not contain a polar group. (1) (1)' [In the formula, R represents a hydrogen atom, fluorine atom, lower alkyl group having 20 or less carbon atoms or fluorinated lower alkyl group having 20 or less carbon atoms; R1 represents an optionally substituted twenty- or less membered cyclic group; n is 0 or an integer of 1-5; and m is 0 or 1.]
(FR)L’invention décrit une composition résistante positive qui est composée d'un composé polymère contenant un ou plusieurs motifs (a1) choisis à partir du groupe consistant en motifs représentés par la formule générale (1) ou (1') ci-dessous, un motif (a2) dérivé d'un (&agr; alkyle inférieur)acrylate ayant une groupe cyclique contenant du lactone et un motif (a3) dérivé d'un (&agr; alkyle inférieur)acrylate dont le motif (a3) est autre que le motif (a1) et que le motif (a2) et contient un groupe inhibiteur de dissolution indivisible d'acide contenant un groupe alicyclique mais ne contient pas de groupe polaire. (1) (1') [Dans la formule, R représente un atome d'hydrogène, un atome de fluor, un groupe d'alkyle inférieur ayant 20 atomes de carbone ou moins ou un groupe d'alkyle inférieur fluoré ayant 20 atomes de carbone ou moins; R' représente un groupe cyclique substitué optionnel à vingt éléments ou moins; n est 0 ou un entier compris entre 1 et 5; et m est 0 ou 1.]
(JA)not available
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)