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1. (WO2005122220) EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE PRODUCING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/122220    International Application No.:    PCT/JP2005/010484
Publication Date: 22.12.2005 International Filing Date: 08.06.2005
IPC:
H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1008331 (JP) (For All Designated States Except US).
NAGASAKA, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
ONDA, Minoru [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: NAGASAKA, Hiroyuki; (JP).
ONDA, Minoru; (JP)
Agent: KAWAKITA, Kijuro; YKB Mike Garden 5-4, Shinjuku 1-chome Shinjuku-ku Tokyo 1600022 (JP)
Priority Data:
2004-172568 10.06.2004 JP
Title (EN) EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE PRODUCING METHOD
(FR) APPAREIL D’EXPOSITION, PROCEDE D’EXPOSITION ET PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIF
(JA) 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
Abstract: front page image
(EN)An exposure apparatus (EX) has a projection optical system (PL). The projection optical system (PL) has a first optical element (LS1) closest to the image surface of the projection optical system (PL) and a second optical element (LS2) closest to the image surface next to the first optical element (LS1). The first optical element (LS1) has a lower surface (T1) provided so as to face the surface of a substrate (P) and an upper surface (T2) provided so as to face the second optical element (LS2). Second liquid (LQ2) is placed between the upper surface (T2) of the first optical element (LS1) and the second optical element (LS2) such that a liquid immersion region is formed in a region including that region (AR’) of the upper surface (T2) where exposure light (EL) passes. The exposure light (EL) is emitted on the substrate (P) through the first liquid (LQ1) on the lower surface (T1) side of the first optical element (LS1) and the second liquid (LQ2) on the upper surface (T2) side of the first optical element (LS1) to expose the substrate (P). Deterioration in exposure accuracy caused by contamination of the optical elements can be prevented, and the liquid immersion region can be restricted from becoming larger.
(FR)Il est prévu un appareil d’exposition (EX) ayant un système optique de projection (PL). Le système optique de projection (PL) possède un premier élément optique (LS1) le plus proche de la surface d’image du système optique de projection (PL) et un second élément optique (LS2) le plus proche de la surface d’image près du premier élément optique (LS1). Le premier élément optique (LS1) possède une surface inférieure (T1) prévue pour faire face à la surface d’un substrat (P) et une surface supérieure (T2) prévue pour faire face au second élément optique (LS2). Un second liquide (LQ2) est placé entre la surface supérieure (T2) du premier élément optique (LS1) et le second élément optique (LS2) pour constituer une région d’immersion de liquide dans une région englobant cette région (AR’) de la surface supérieure (T2) dans laquelle passe la lumière d’exposition (EL). La lumière d’exposition (EL) est émise sur le substrat (P) à travers le premier liquide (LQ1) sur le côté surface inférieure (T1) du premier élément optique (LS1) et le second liquide (LQ2) sur le côté surface supérieure (T2) du premier élément optique (LS1) pour exposer le substrat (P). On peut empêcher toute baisse de précision d’exposition par contamination des éléments optiques et tout gonflement de la région d’immersion de liquide.
(JA)露光装置EXは、投影光学系PLを有する。投影光学系PLは、その像面に最も近い第1光学素子LS1と、第1光学素子LS1に次いで像面に近い第2光学素子LS2とを有する。第1光学素子LS1は、基板Pの表面と対向するように配置された下面T1と、第2光学素子LS2と対向するように配置された上面T2とを有している。上面T2のうち露光光ELが通過する領域AR’を含む領域に液浸領域が形成されるように第1光学素子LS1の上面T2と第2光学素子LS2との間が第2液体LQ2で満たされ、第1光学素子LS1の下面T1側の第1液体LQ1と上面T2側の第2液体LQ2とを介して基板P上に露光光ELを照射することで基板Pが露光される。光学素子の汚染に起因する露光精度の劣化を防止でき、液浸領域の巨大化を抑制できる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)