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1. (WO2005121902) ELECTRON BEAM POSITION FLUCTUATION MEASUREMENT METHOD, ELECTRON BEAM POSITION FLUCTUATION MEASUREMENT DEVICE, AND ELECTRON BEAM RECORDING DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/121902    International Application No.:    PCT/JP2005/010144
Publication Date: 22.12.2005 International Filing Date: 02.06.2005
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), G11B 9/10 (2006.01), H01J 37/04 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: PIONEER CORPORATION [JP/JP]; 4-1, Meguro 1-chome, Meguro-ku, Tokyo 1538654 (JP) (For All Designated States Except US).
KOJIMA, Yoshiaki [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: KOJIMA, Yoshiaki; (JP)
Agent: KOBASHI, Nobukiyo; 4F Ebisu MF Building 14th 6-10, Ebisuminami 1-chome Shibuya-ku, Tokyo 1500022 (JP)
Priority Data:
2004-168062 07.06.2004 JP
Title (EN) ELECTRON BEAM POSITION FLUCTUATION MEASUREMENT METHOD, ELECTRON BEAM POSITION FLUCTUATION MEASUREMENT DEVICE, AND ELECTRON BEAM RECORDING DEVICE
(FR) PROCEDE DE MESURE DE FLUCTUATION DE POSITION D'UN FAISCEAU D'ELECTRONS, DISPOSITIF DE MESURE DE FLUCTUATION DE POSITION D'UN FAISCEAU D'ELECTRONS, ET DISPOSITIF D'ENREGISTREMENT DE FAISCEAU D'ELECTRONS
(JA) 電子ビーム位置変動測定方法、電子ビーム位置変動測定装置、電子ビーム記録装置
Abstract: front page image
(EN)When measuring beam position fluctuation before performing recording by an electron beam recording device, it is possible to measure a stable and accurate fluctuation amount. A measurement device (10) measures position fluctuation of an electron beam Ep before performing recording. The measurement device (10) includes a knife edge (11) arranged at the radiation position of the beam spot Ep, detection means (Faraday cup (12), etc.) for detecting the electron beam E applied via the knife edge (11), filter means (high-range cut filter (14), etc.) for removing the fluctuation frequency component of the measurement object from the output of the detection means, and control means (15) for controlling the reference position of the electron beam E so that the center of the beam spot Ep is at the tip end position of the knife edge (11) according to the output of the filter means. The position fluctuation of the beam spot Ep is measured by the output change of the detection means when the center of the beam spot Ep is shifted from the tip end of the knife edge (11).
(FR)Quand la fluctuation de position de faisceau est mesurée avant d'effectuer un enregistrement par un dispositif d'enregistrement de faisceau d'électron, il est possible de mesurer une quantité de fluctuation stable et précise. Un dispositif de mesure (10) mesure la fluctuation de position d'un faisceau d'électrons Ep avant d'effectuer l'enregistrement. Le dispositif de mesure (10) comprend une lame de couteau (11) disposée à la position de rayonnement du point de faisceau Ep, un moyen de détection (collecteur de Faraday (12), etc.) pour détecter le faisceau d'électrons E appliqué via la lame de couteau (11), un moyen de filtrage (filtre passe-haut (14), etc.) pour éliminer la composante de fréquence de fluctuation de l'objet à mesurer de la sortie du moyen de détection, et un moyen de commande (15) pour commander la position de référence du faisceau d'électrons E pour que le centre du point de faisceau Ep soit en position terminale de la lame de couteau (11) selon la sortie du moyen de filtrage. La fluctuation de position du point du faisceau Ep est mesurée par le changement de sortie du moyen de détection quand le centre du point du faisceau Ep est décalé à partir de l'extrémité de la lame de couteau (11).
(JA) 電子ビーム記録装置の記録に先立って行われるビーム位置変動の測定に際して、安定且つ正確な変動量の測定を可能にする。  記録に先立って電子ビームEの位置変動を測定する測定装置10であって、ビームスポットEの照射位置に配置されるナイフエッジ11と、ナイフエッジ11を介して照射される電子ビームEを検出する検出手段(ファラデーカップ12等)と、この検出手段の出力から測定対象の変動周波数成分を除去するフィルタ手段(高域カットフィルタ14等)と、このフィルタ手段の出力に基づいて、ビームスポットEの中心がナイフエッジ11の先端位置になるように、電子ビームEの基準位置を制御する制御手段15とを備え、ビームスポットEの中心がナイフエッジ11の先端からずれる際の検出手段の出力変化によって、ビームスポットEの位置変動を測定する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)