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1. (WO2005121397) CONTROLLED VAPOR DEPOSITION OF MULTILAYERED COATINGS ADHERED BY AN OXIDE LAYER
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/121397    International Application No.:    PCT/US2005/018313
Publication Date: 22.12.2005 International Filing Date: 24.05.2005
IPC:
C23C 16/40 (2006.01), H01L 21/316 (2006.01)
Applicants: APPLIED MICROSTRUCTURES, INC. [US/US]; 4425 Fortran Drive, San Jose, CA 95134 (US) (For All Designated States Except US)
Inventors: KOBRIN, Boris; (US).
CHINN, Jeffrey, D.; (US).
NOWAK, Romuald; (US).
YI, Richard, C.; (US)
Agent: CHURCH, Shirley, L., Esq.; P.O. Box 81146, San Diego, CA 92138 (US)
Priority Data:
10/862,047 04.06.2004 US
10/996,520 23.11.2004 US
11/112,664 21.04.2005 US
Title (EN) CONTROLLED VAPOR DEPOSITION OF MULTILAYERED COATINGS ADHERED BY AN OXIDE LAYER
(FR) DEPOT EN PHASE VAPEUR COMMANDE DE REVETEMENTS MULTICOUCHES COLLES PAR UNE COUCHE D'OXYDE
Abstract: front page image
(EN)An improved vapor-phase deposition method and apparatus for the application of multilayered films/coatings on substrates is described. The method is used to deposit multilayered coatings where the thickness of an oxide-based layer in direct contact with a substrate (106) is controlled as a function of the chemical composition of the substrate, whereby a subsequently deposited layer bonds better to the oxide-based layer.
(FR)Cette invention concerne un procédé et un appareil de dépôt en phase vapeur perfectionné permettant d'appliquer des films/revêtements multicouches sur des substrats. Ce procédé est utilisé pour déposer des revêtements multicouches pour lesquels l'épaisseur d'une couche à base d'oxyde en contact direct avec un substrat est modifiée en fonction de la composition chimique du substrat afin de permettre à une couche déposée ultérieurement de mieux adhérer à la couche à base d'oxyde. Le procédé perfectionné de cette invention est utilisé pour déposer des revêtements multicouches pour lesquels une couche à base d'oxyde est déposée directement sur un substrat et une couche de matière organique est déposée directement sur la couche à base d'oxyde. D'ordinaire, les couches à base d'oxyde et les couches de matière organique sont appliquées en alternance.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)