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1. (WO2005119349) POLARIZED UV EXPOSURE SYSTEM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/119349    International Application No.:    PCT/US2005/013248
Publication Date: 15.12.2005 International Filing Date: 20.04.2005
IPC:
G02F 1/1337 (2006.01), F21V 7/00 (2006.01), G02B 27/30 (2006.01)
Applicants: 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY [US/US]; 3M Center, Post Office Box 33427, Saint Paul, Minnesota 55133-3427 (US)
Inventors: SOLOMON, Jeffrey L.,; (US).
LEA, Michael C.,; (US).
ALLEN, Richard C.,; (US)
Agent: KOBILANSKY, Anna A.; Office of Intellelctual Property Counsel Post Office Box 33427, Saint Paul, Minnesota 55133-3427 (US)
Priority Data:
10/858,998 02.06.2004 US
Title (EN) POLARIZED UV EXPOSURE SYSTEM
(FR) SYSTEME D'EXPOSITION ULTRAVIOLETTE POLARISE
Abstract: front page image
(EN)A light exposure system is used to expose an alignment layer (304) formed of anistropically absorbing molecules so as to allow alignment of subsequently applied liquid crystal polymer (LCP) molecules. The light incident on the alignment layer is polarized. When a single polarizer (318a) is used, the azimuthal polarization direction varies across the substrate carrying the alignment layer. Various approaches to reducing the azimuthal polarization variation may be adopted, including the introduction of various types of polarization rotation reduction elements (318b) and in selecting an appropriate tilt angle for the light source. Furthermore, a reflective structure may be inserted between the light source and the alignment layer. Use of the reflective structure increases the total amount of light incident on the alignment layer and may also reduce the polarization rotation if inserted between the light source and the polarizer.
(FR)La présente invention a trait à un système d'exposition à la lumière utilisé pour l'exposition d'une couche d'alignement formée de molécules d'absorption anisotrope en vue de permettre l'alignement de molécules de polymères à cristaux liquides (PCL) appliquées ultérieurement. La lumière incidente sur la couche d'alignement est polarisée. Lors de l'utilisation d'un polariseur unique, la direction de polarisation azimutale varie à travers le substrat portant la couche d'alignement. On peut adopter diverses techniques pour la réduction de la variation de la polarisation azimutale, comprenant l'introduction de divers types d'élément de réduction de rotation de polarisation et par la sélection d'un angle d'inclinaison approprié pour la source lumineuse. En outre, une structure réfléchissante peut être interposée entre la source lumineuse et la couche d'alignement. L'utilisation de la structure réfléchissante accroît la quantité totale de lumière incidente sur la couche d'alignement.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)