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1. (WO2005117157) ORGANIC COMPOUND HAVING AT BOTH ENDS DIFFERENT FUNCTIONAL GROUPS DIFFERING IN REACTIVITY IN ELIMINATION REACTION, ORGANIC THIN FILMS, ORGANIC DEVICE, AND PROCESSES FOR PRODUCING THESE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/117157    International Application No.:    PCT/JP2005/009772
Publication Date: 08.12.2005 International Filing Date: 27.05.2005
IPC:
H01L 51/00 (2006.01), C09K 11/06 (2006.01), H01L 29/786 (2006.01), H01L 31/04 (2006.01), H05B 33/14 (2006.01), H05B 33/22 (2006.01)
Applicants: SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho Abeno-ku, Osaka-shi Osaka 5458522 (JP) (For All Designated States Except US).
IMADA, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
HANATO, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TAMURA, Toshihiro [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: IMADA, Hiroshi; (JP).
HANATO, Hiroyuki; (JP).
TAMURA, Toshihiro; (JP)
Agent: KAWAMIYA, Osamu; AOYAMA & PARTNERS IMP Building 3-7, Shiromi 1-chome Chuo-ku, Osaka-shi Osaka 5400001 (JP)
Priority Data:
2004-156971 27.05.2004 JP
2004-222175 29.07.2004 JP
2004-222763 30.07.2004 JP
2005-154075 26.05.2005 JP
Title (EN) ORGANIC COMPOUND HAVING AT BOTH ENDS DIFFERENT FUNCTIONAL GROUPS DIFFERING IN REACTIVITY IN ELIMINATION REACTION, ORGANIC THIN FILMS, ORGANIC DEVICE, AND PROCESSES FOR PRODUCING THESE
(FR) COMPOSÉ ORGANIQUE AYANT AUX DEUX EXTRÉMITÉS DIFFÉRENTS GROUPES FONCTIONNELS DE RÉACTIVITÉ DIFFÉRENTE LORS DE LA RÉACTION D’ÉLIMINATION, FILMS MINCES ORGANIQUES, DISPOSITIF ORGANIQUE, ET PROCEDES DE FABRICATION DE CEUX-CI
(JA) 両末端に脱離反応性の異なる異種官能基を有する有機化合物、有機薄膜、有機デバイスおよびそれらの製造方法
Abstract: front page image
(EN)A monomolecular film having evenness of film thickness and high regularity of molecular arrangement and a built-up film composed of such monomolecular films; an organic compound capable of forming these films with satisfactory reproducibility; an organic device having excellent electrical conductivity; and processes for producing these. The organic compound is represented by the general formula Si(A1)(A2)(A3)-B-Si(A4)(A5)(A6) (wherein A1 to A6 each is hydrogen, halogeno, alkoxy, or alkyl and the reactivity of A1 to A6 in elimination reaction satisfies the relationship (A1 to A3)>(A4 to A6); and B is a divalent organic group). The organic thin films are formed from the compound. The organic device has either of the thin films. The processes for producing an organic thin film and an organic device comprise: a step in which the silyl groups having A1 to A3 of the organic compound are reacted with a substrate surface to form a monomolecular film; a step in which the organic compound remaining unreacted is removed by cleaning with a nonaqueous solvent; and a step in which the unreacted silyl groups present on the outer side of the monomolecular film are used as adsorption reaction sites to accumulate thereon monomolecular films formed from the organic compound.
(FR)Il est prévu un film monomoléculaire d’une épaisseur uniforme de film et d’agencement moléculaire très régulier et un film cumulé composé de tels films monomoléculaires ; un composé organique capable de former ces films avec une reproductibilité satisfaisante ; un dispositif organique d’excellente conductivité électrique ; et des procédés de fabrication de ceux-ci. Le composé organique est représenté par la formule générale Si(A1)(A2)(A3)-B-Si(A4)(A5)(A6) (où A1 à A6 sont chacun de l’hydrogène, un halogène, un alcoxy ou un alkyle et la réactivité de A1 à A6 dans la réaction d’élimination satisfait à la relation (A1 à A3) > (A4 à A6); et B est un groupe organique divalent). Les films minces organiques sont formés à partir du composé. Le dispositif organique possède l’un des films minces. Les procédés de fabrication d’un film mince organique et d’un dispositif organique comprennent : une phase dans laquelle les groupes silyles ayant A1 à A3 du composé organique sont mis en réaction avec une surface de substrat pour constituer un film monomoléculaire ; une phase dans laquelle le composé organique restant sans être mis en réaction est enlevé par nettoyage avec un solvant non aqueux ; et une phase dans laquelle on utilise les groupes silyles non mis en réaction présents sur le côté externe du film monomoléculaire comme sites de réaction d’adsorption pour y accumuler les films monomoléculaires formés à partir du composé organique.
(JA) 膜厚が均一で、かつ分子配列の秩序性が高い単一単分子膜およびその累積膜、それらの膜を再現性良く製造可能な有機化合物、電気伝導特性に優れた有機デバイスおよびそれらの製造方法を提供すること。  一般式;Si(A)(A)(A)-B-Si(A)(A)(A)(A~Aは水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基またはアルキル基であり、脱離反応性についてA~A>A~Aの関係を満たす;Bは2価の有機基である)の有機化合物、該化合物を用いた有機薄膜、該薄膜を有した有機デバイス。上記有機化合物におけるA~Aを有するシリル基と基板表面とを反応させ、単一単分子膜を形成する工程、未反応の有機化合物を非水系溶媒を用いて洗浄除去する工程、および単分子膜の膜表面側に存在する未反応のシリル基を吸着反応のサイトとして、上記の有機化合物からなる単分子膜を累積させる工程を含む有機薄膜および有機デバイスの製造方法。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)