WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2005117074) IMMERSION LIQUID FOR IMMERSION EXPOSURE PROCESS AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING SUCH IMMERSION LIQUID
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/117074    International Application No.:    PCT/JP2005/009477
Publication Date: 08.12.2005 International Filing Date: 24.05.2005
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), G03F 7/38 (2006.01)
Applicants: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2110012 (JP) (For All Designated States Except US).
HIRAYAMA, Taku [JP/JP]; (JP) (For US Only).
WAKIYA, Kazumasa [JP/JP]; (JP) (For US Only).
ENDO, Kotaro [JP/JP]; (JP) (For US Only).
YOSHIDA, Masaaki [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: HIRAYAMA, Taku; (JP).
WAKIYA, Kazumasa; (JP).
ENDO, Kotaro; (JP).
YOSHIDA, Masaaki; (JP)
Agent: SHOBAYASHI, Masayuki; Takase Bldg., 25-8, Higashi-ikebukuro 1-chome, Toshima-ku, Tokyo 1700013 (JP)
Priority Data:
2004-155274 25.05.2004 JP
Title (EN) IMMERSION LIQUID FOR IMMERSION EXPOSURE PROCESS AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING SUCH IMMERSION LIQUID
(FR) LIQUIDE D’IMMERSION POUR PROCESSUS D’EXPOSITION PAR IMMERSION ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE RÉSIST UTILISANT LEDIT LIQUIDE D’IMMERSION
(JA) 液浸露光プロセス用浸漬液および該浸漬液を用いたレジストパターン形成方法
Abstract: front page image
(EN)In an immersion exposure process, particularly in such an immersion exposure process wherein the resolution of a resist pattern in improved by performing an exposure while having a liquid with a certain thickness which has a higher refractive index than air intervene at least on a resist film in the path through which a lithography exposure light reaches the resist film, deterioration of the resist film and deterioration of the liquid in use during the immersion exposure are prevented at the same time, thereby enabling to form a high resolution resist pattern through immersion exposure. A liquid composed of a silicon-based liquid which is transparent to the exposure light used for the exposure process is used as an immersion liquid for the immersion exposure.
(FR)Dans un processus d’exposition par immersion, en particulier dans un processus d’exposition par immersion dans lequel la définition d’un motif de résist est améliorée en réalisant une exposition tout en ayant un liquide d’une certaine épaisseur avec un indice de réfraction plus élevé que l’air, on intervient au moins sur un film de résist dans le circuit à travers lequel une lumière d’exposition par lithographie atteint le film de résist, en empêchant dans le même temps toute détérioration du film de résist et toute détérioration du liquide utilisé pendant l’exposition par immersion et en permettant ainsi de former un motif de résist haute définition par exposition par immersion. Un liquide composé d’un liquide à base de silicium qui est transparent à la lumière d’exposition utilisée dans le processus d’exposition sert de liquide d’immersion pour l’exposition par immersion.
(JA) 液浸露光プロセス、中でもリソグラフィー露光光がレジスト膜に到達する経路の少なくとも前記レジスト膜上に空気より屈折率が高い所定厚さの液体を介在させた状態で露光することによってレジストパターンの解像度を向上させる液浸露光プロセスにおいて、液浸露光中のレジスト膜の変質および使用液体の変質を同時に防止し、液浸露光を用いた高解像性レジストパターンの形成を可能とする。露光プロセスに用いる露光光に対して透明であるシリコン系液体から構成した液体を、液浸露光の浸漬液として使用する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)