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1. (WO2005116768) POSITIVE RESIST COMPOSITIONS AND PROCESS FOR THE FORMATION OF RESIST PATTERNS WITH THE SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/116768    International Application No.:    PCT/JP2005/009450
Publication Date: 08.12.2005 International Filing Date: 24.05.2005
IPC:
G03F 7/039 (2006.01), C08F 220/18 (2006.01)
Applicants: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 150, Nakamaruko, Nakahara-ku Kawasaki-shi Kanagawa 2110012 (JP) (For All Designated States Except US).
HADA, Hideo [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TAKESHITA, Masaru [JP/JP]; (JP) (For US Only).
YAMADA, Satoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: HADA, Hideo; (JP).
TAKESHITA, Masaru; (JP).
YAMADA, Satoshi; (JP)
Agent: TANAI, Sumio; 2-3-1, Yaesu, Chuo-ku Tokyo 1048453 (JP)
Priority Data:
2004-161881 31.05.2004 JP
2004-161882 31.05.2004 JP
2005-133205 28.04.2005 JP
2005-133206 28.04.2005 JP
Title (EN) POSITIVE RESIST COMPOSITIONS AND PROCESS FOR THE FORMATION OF RESIST PATTERNS WITH THE SAME
(FR) COMPOSITION DE RÉSIST POSITIF ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MOTIFS DE RÉSIST AVEC LADITE COMPOSITION
(JA) ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法
Abstract: front page image
(EN)A positive resist composition comprising (A) a resin component and (B) an acid generator component, wherein the component (A) is a copolymer which comprises constituent units (a1) derived from a mono(&agr;-lower alkyl)acrylate having an acid-dissociable dissolution-inhibiting group, constituent units (b1) derived from a mono(&agr;-lower alkyl)acrylate having a lactone ring, and constituent units (c1) derived from a poly(&agr;-lower alkyl)acrylate; and a positive resist composition comprising (A) a resin component and (B) an acid generator component, wherein the component (A) is a star polymer having a core containing acid-dissociable dissolution-inhibiting groups and arms bonded to the core.
(FR)Il est prévu une composition de résist positif comprenant (A) un composant de résine et (B) un composant générateur d’acide, où le composant (A) est un copolymère comprenant des unités constitutives (a1) dérivées d’un mono (&agr;-faible alkyle)acrylate ayant un groupe inhibiteur de dissolution dissociable d’acide, des unités constitutives (b1) dérivées d’un mono(&agr;-faible alkyle)acrylate ayant un anneau de lactone et des unités constitutives (c1) dérivées d’un poly(&agr;-faible alkyle)acrylate ; et une composition de résist positif comprenant (A) un composant de résine et (B) un composant générateur d’acide, où le composant (A) est un polymère en étoile ayant un noyau contenant des groupes inhibiteurs de dissolution dissociable d’acide et des bras liés au noyau.
(JA) (A)樹脂成分、および(B)酸発生剤成分を含有し、前記(A)成分が、酸解離性溶解抑制基を含むモノ(α-低級アルキル)アクリルレート系構成単位(a1)、ラクトン環を有するモノ(α-低級アルキル)アクリルレート系構成単位(b1)、及びポリ(α-低級アルキル)アクリルレート系構成単位(c1)を有する共重合体であるポジ型レジスト組成物。(A)樹脂成分、および(B)酸発生剤成分を含有し、前記(A)成分が、酸解離性溶解抑制基を含むコア部と、該コア部に結合したアーム部を有するスターポリマーであるポジ型レジスト組成物。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)