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1. (WO2005116759) CLEANING A MASK SUBSTRATE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/116759    International Application No.:    PCT/IB2005/051749
Publication Date: 08.12.2005 International Filing Date: 27.05.2005
IPC:
G03F 1/00 (2006.01)
Applicants: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V. [NL/NL]; Groenewoudseweg 1, NL-5621 BA Eindhoven (NL) (For All Designated States Except US).
RASTEGAR, Abbas [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: RASTEGAR, Abbas; (US)
Common
Representative:
KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V.; c/o MICHALEK, Daniel, L., 1109 McKay Drive, M/S-41SJ, San Jose, CA 95131-1706 (US)
Priority Data:
60/575,177 28.05.2004 US
Title (EN) CLEANING A MASK SUBSTRATE
(FR) NETTOYAGE D'UN SUBSTRAT DE MASQUE
Abstract: front page image
(EN)This invention relates to a mask cleaning apparatus (101) and a method of cleaning a mask substrate (110). An embodiment according to the invention is a mask cleaning apparatus (101) with a trap comprising a cold trap (120). An additional heater (130) performs the heating function. The mask cleaning apparatus (101) further comprises a support means (105), an aerosol nozzle (150) for blowing aerosol (155) towards the mask substrate (110). In a first stage of the cleaning process the mask substrate (110) is close to the heater (130), and the mask substrate (110) is heated. In a second stage of the cleaning process, the gas flow (170) is stopped, and the mask (110) is transported close to the cold trap (120). The cold trap (120) is cooled. In a third stage of the cleaning process, the aerosol nozzle (150) blows aerosol (155) towards the mask substrate (110), which detaches particles from the mask substrate (110). This embodiment uses thermophoretic forces for trapping detached particles. Other embodiments according to the invention use vacuum, electrostatic forces and/or getter metal for trapping detached particles.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de nettoyage de masque (101) et un procédé permettant de nettoyer un substrat de masque (110). Un mode de réalisation décrit dans cette invention concerne un dispositif de nettoyage de masque (101) pourvu d'un piège comprenant un piège condensateur (120). Un dispositif de chauffage supplémentaire (130) assure la fonction de chauffage. Le dispositif (101) décrit dans cette invention comprend un moyen support (105), une tuyère d'aérosol (150) conçue pour souffler l'aérosol (155) en direction du substrat de masque (110). Dans une première étape du processus de nettoyage, le substrat de masque (110) est placé à proximité du dispositif de chauffage (130), et le substrat de masque (110) est chauffé. Dans une seconde étape du processus de nettoyage, l'écoulement de gaz (170) est arrêté, puis le masque (110) est acheminé à proximité du piège condensateur (120). Le piège condensateur (120) est refroidi. Dans une troisième étape du processus de nettoyage, la tuyère d'aérosol (150) souffle l'aérosol (155) en direction du substrat de masque (110), ce qui permet de détacher les particules du substrat de masque (110). Ce mode de réalisation consiste à utiliser des forces thermophorétiques pour piéger les particules détachées. D'autres modes de réalisation décrits dans cette invention consistent à utiliser le vide, les forces électrostatiques et/ou un métal absorbant pour piéger les particules détachées.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)