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1. (WO2005116448) VACUUM PUMP
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2005/116448    International Application No.:    PCT/JP2005/009148
Publication Date: 08.12.2005 International Filing Date: 19.05.2005
IPC:
F04B 37/16 (2006.01), F04D 19/04 (2006.01)
Applicants: BOC Edwards Japan Limited [JP/JP]; Sanshikaikan, 9-4, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000006 (JP) (For All Designated States Except US).
KABASAWA, Takashi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
NONAKA, Manabu [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: KABASAWA, Takashi; (JP).
NONAKA, Manabu; (JP)
Agent: NAKANO, Hitoshi; B1 Umeya Bldg., 12-8 Nishishinjuku 8-chome Shinjuku-ku, Tokyo 1600023 (JP)
Priority Data:
2004-155060 25.05.2004 JP
Title (EN) VACUUM PUMP
(FR) POMPE À VIDE
(JA) 真空ポンプ
Abstract: front page image
(EN)Radiation heat from a vacuum pump propagated to the vacuum device side is efficiently reduced by a simple construction. A radiation heat reduction structure is provided on the upstream of a gas transfer mechanism of a turbo molecule pump (1), and the structure reduces influence of radiation heat to a vacuum chamber (30). The radiation heat reduction structure is constructed from a heat shield mechanism and a cooling mechanism. The heat shield mechanism is constructed from a heat shield plate (18), a support section (19), and an uppermost stage spacer (17a). Surface treatment providing an emissivity of 0.8 or higher is applied to the surface on the downstream side of the heat shield plate (18). On the other hand, surface treatment providing an emissivity of 0.1 or lower is applied to the surface on the upstream side. By the above structure, the heat shield plate (18) can absorb more heat, and in addition, the heat shield plate (18) can reduce the amount of heat radiated to the vacuum chamber (30) side.
(FR)La chaleur de rayonnement provenant d’une pompe à vide propagée vers le côté du dispositif à vide est efficacement réduite par une simple construction. Une structure de réduction de la chaleur de rayonnement est placée en amont d’un mécanisme de transfert des gaz d’une pompe turbomoléculaire (1), et la structure réduit l’influence de la chaleur de rayonnement vers une chambre à vide (30). La structure de réduction de la chaleur de rayonnement est construite à partir d’un mécanisme thermique t d’un mécanisme de refroidissement. Le mécanisme thermique est construit à partir d’une plaque thermique (18), d’une section de support (19), et d’un espaceur d’étage supérieur (17a). Le traitement superficiel générant une émissivité de 0,8 ou plus est appliqué à la surface sur le côté aval de la plaque thermique (18). Par ailleurs, le traitement superficiel générant une émissivité de 0,1 ou moins est appliqué à la surface sur le côté amont. Par le biais de la structure ci-dessus, la plaque thermique (18) peut absorber plus de chaleur et en plus, la plaque thermique (18) peut réduire la quantité de chaleur rayonnée vers le côté de la chambre à vide (30).
(JA) 真空装置側へ伝播する真空ポンプの放射熱を簡単な構成で効率的に低減させることを目的とする。  ターボ分子ポンプ1の気体移送機構の上流に、真空室30が受ける放射熱の影響を低減させるための放射熱低減構造を設ける。放射熱低減構造は、遮熱機構と冷却機構から構成されている。遮熱機構は、遮熱プレート18、支持部19および最上段スペーサ17aから構成されている。遮熱プレート18の下流側の面には、放射率が0.8以上である表面処理が施され、一方、上流側の面には、放射率が0.1以下である表面処理が施されている。これにより、遮熱プレート18においてより多くの熱を吸収させることができるだけでなく、真空室30側へ放射される熱の量を低減させることができる。                                                                                 
Designated States: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
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Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)